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J-GLOBAL ID：200903068959360439

スペーサー用感放射線性樹脂組成物、スペーサー、およびその形成方法

Inventor：
梶田 徹

About 梶田 徹

, 
河本 達慶

About 河本 達慶

, 
松本 龍

About 松本 龍


Applicant, Patent owner：
JSR株式会社

About JSR株式会社


Agent (1)： 白井 重隆
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2005294720
Publication number (International publication number)：2007102070
Application date： Oct. 07, 2005
Publication date： Apr. 19, 2007
Summary：
【課題】高感度、高解像度であり、かつパターン形状、圧縮強度、ラビング耐性、透明基板との密着性などの諸性能に優れたパターン状薄膜を容易に形成することができ、焼成時の昇華物の発生が抑制された感放射線性樹脂組成物、それから形成されたスペーサー、およびその形成方法を提供すること。【解決手段】(A)カルボキシル基およびエポキシ基を有し、かつゲルパーミエーションクロマトグラフィーで測定したポリスチレン換算重量平均分子量(Mw)とポリスチレン換算数平均分子量(Mn)の比(Mw/Mn)が1.7以下である重合体、(B)重合性不飽和化合物および(C)感放射線性重合開始剤、を含有する感放射線性樹脂組成物であって、(A)重合体を製造するリビングラジカル重合が特定のチオカルボニルチオ(ジスルフィド)化合物を分子量制御剤として用いる重合である、スペーサー形成用感放射線性樹脂組成物。【選択図】なし
Claim (excerpt)：
(A)カルボキシル基およびエポキシ基を有し、かつゲルパーミエーションクロマトグラフィーで測定したポリスチレン換算重量平均分子量(Mw)とポリスチレン換算数平均分子量(Mn)の比(Mw/Mn)が1.7以下である重合体、(B)重合性不飽和化合物および(C)感放射線性重合開始剤を含有する感放射線性樹脂組成物であって、(A)重合体を製造するリビングラジカル重合が下記式(1)または式(2)で表されるチオカルボニルチオ化合物を分子量制御剤として用いる重合であることを特徴とするスペーサー形成用感放射線性樹脂組成物。
IPC (2)：
G03F 7/038 ,  G02F 1/133
FI (2)：
G03F7/038 503 ,  G02F1/1339 500
F-Term (25)：
2H025AA01 ,  2H025AA02 ,  2H025AA10 ,  2H025AA13 ,  2H025AA14 ,  2H025AB14 ,  2H025AC01 ,  2H025AD01 ,  2H025BC13 ,  2H025BC42 ,  2H025BD23 ,  2H025CB30 ,  2H025CB41 ,  2H025CB43 ,  2H025CB56 ,  2H025CC17 ,  2H025FA29 ,  2H089LA09 ,  2H089MA04X ,  2H089NA14 ,  2H089NA17 ,  2H089PA05 ,  2H089PA06 ,  2H089PA09 ,  2H089QA14
Patent cited by the Patent：
Cited by applicant (1) Cited by examiner (8)
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