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J-GLOBAL ID：200903059390799373

フォトレジスト組成物およびそれらの調製方法

Inventor：
ジェームズ アール.スーニク

About ジェームズ アール.スーニク

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フランク レオナルド シャート ザ サード

About フランク レオナルド シャート ザ サード

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マイケル フリード

About マイケル フリード


Applicant, Patent owner：
イー・アイ・デュポン・ドウ・ヌムール・アンド・カンパニー

About イー・アイ・デュポン・ドウ・ヌムール・アンド・カンパニー


Agent (2)： 谷 義一 ,  阿部 和夫
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2004139039
Publication number (International publication number)：2004352989
Application date： May. 07, 2004
Publication date： Dec. 16, 2004
Summary：
【課題】 フォトレジスト組成物に使用されるポリマーの改良された調製方法を提供すること。【解決手段】 重合、精製、エステル交換反応、精製、触媒除去、および溶媒交換のステップを含む、高められた純度と低多分散性のポリマーの無水の液相調製方法。得られた溶液中のポリマーを、さらなる処理ステップ無しに、直接使用してフォトレジスト組成物を調製することができる。【選択図】 なし
Claim (excerpt)：
溶液中に低多分散性のポリマーを含有するフォトレジスト組成物の液相調製方法であって、 (A)チオカルボニルチオ連鎖移動剤の存在下で、置換スチレンモノマーを単独で、またはアルキルアクリレート、1種もしくは複数種のエチレン性不飽和共重合性モノマーおよびそれらの混合物からなる群から選択される1種もしくは複数種のモノマーと組み合わせて、第1の溶媒中、開始剤の存在下で、十分な時間、十分な温度および圧力で重合させて、ポリマーと第1の溶媒との混合物を形成するステップ、 (B)分別によってポリマーと第1の溶媒との混合物を任意選択的に精製するステップであって、前記混合物に追加の第1の溶媒を加え、前記混合物を加熱および/または攪拌し、その混合物を沈殿させ、第1の溶媒をデカントし、そしてさらに第1の溶媒を加えて、この分別を少なくとももう1回繰り返すステップ、 (C)前記ポリマーをエステル交換反応させるステップであって、触媒存在下、十分な時間、十分な温度および圧力で、前記第1の溶媒の沸点でポリマーを還流させ、ヒドロキシル含有ポリマーおよび第1の溶媒を含む反応混合物を形成するステップ、 (D)ステップ(C)からの前記反応混合物を任意選択的に精製するステップであって、第2の溶媒を、前記第2の溶媒が混和しない前記反応混合物と混合し、層を分離させ、前記第2の溶媒および溶解した任意の副生成物および低い重量平均分子量のポリマーを除去するステップ、 (E)前記ポリマーをイオン交換物質に通して、そこから触媒を除去し、それによって実質的に触媒を含まないヒドロキシル含有ポリマー溶液を提供するステップ、 (F)ステップ(E)からの前記ポリマーに、フォトレジスト相溶性である第3の溶媒を加え、次いで第1の溶媒を、前記第1の溶媒の少なくとも沸点の温度で十分な時間蒸留して、実質的にすべての前記第1の溶媒を除去して、前記第3の溶媒の実質的に純粋なポリマー溶液を提供するステップ、 を含むことを特徴とする方法。
IPC (6)：
C08F8/12 ,  C08F2/38 ,  C08F6/06 ,  G03F7/038 ,  G03F7/039 ,  H01L21/027
FI (6)：
C08F8/12 ,  C08F2/38 ,  C08F6/06 ,  G03F7/038 601 ,  G03F7/039 601 ,  H01L21/30 502R
F-Term (56)：
2H025AA02 ,  2H025AB16 ,  2H025AC04 ,  2H025AC08 ,  2H025AD01 ,  2H025AD03 ,  2H025BE00 ,  2H025BG00 ,  2H025BJ05 ,  2H025BJ10 ,  4J011AA06 ,  4J011NA26 ,  4J011NB04 ,  4J011NC02 ,  4J100AB02R ,  4J100AB07P ,  4J100AF06R ,  4J100AJ02R ,  4J100AJ08R ,  4J100AK32R ,  4J100AL03R ,  4J100AL04R ,  4J100AL05R ,  4J100AL08Q ,  4J100AL08R ,  4J100AL75R ,  4J100AM02R ,  4J100AM15R ,  4J100BA02R ,  4J100BA03H ,  4J100BA03Q ,  4J100BA03R ,  4J100BA05Q ,  4J100BA15P ,  4J100BA15R ,  4J100BA29R ,  4J100BA43R ,  4J100BA55R ,  4J100BA94R ,  4J100BC04Q ,  4J100BC07Q ,  4J100BC07R ,  4J100BC09Q ,  4J100BC43R ,  4J100BC54R ,  4J100CA01 ,  4J100CA04 ,  4J100CA05 ,  4J100CA31 ,  4J100FA04 ,  4J100HA09 ,  4J100HA61 ,  4J100HC09 ,  4J100HC12 ,  4J100HE05 ,  4J100JA38
Patent cited by the Patent：
Cited by applicant (23)
  • 米国特許第4,491,628号明細書
  • 国際公開第98/01478号パンフレット
  • 国際公開第99/31144号パンフレット
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Cited by examiner (11)
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