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J-GLOBAL ID：200903069164562412

高分子光導波路の作製方法

Inventor： 碓氷 光男 ,  疋田 真 ,  金子 明正 ,  今村 三郎
Applicant, Patent owner： 日本電信電話株式会社
Agent (1)： 谷 義一 (外1名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1995093774
Publication number (International publication number)：1996286064
Application date： Apr. 19, 1995
Publication date： Nov. 01, 1996
Summary：

【要約】【目的】 多様なニーズに合わせ、しかも、大量、少量生産に関わり無く、高性能な導波路型光素子を安価で簡便に作製できる作製法を提供することを目的とする。【構成】 高分子光導波路の作製方法は、基板上にクラッドとなる高分子からなる第1層を形成する工程と、該第1層よりも屈折率が高い高分子からなる第2層を形成する工程と、該第2層の一部をダイシングゾー等でもって機械的に切削除去することによってコア部を形成する工程と、該コア部より屈折率が低い高分子材料でコア部を覆う第3層を形成する工程とを有する。

Claim (excerpt)：

基板上にクラッドとなる高分子からなる第1層を形成する工程と、該第1層よりも屈折率が高い高分子からなる第2層を形成する工程と、該第2層の一部を機械的に切削除去することによってコア部を形成する工程と、該コア部より屈折率が低い高分子材料で前記コア部を覆う第3層を形成する工程とを有することを特徴とする高分子光導波路の作製方法。

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (3)

• 光インターコネクションボード及び光導波路
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平4-102381   Applicant：日本電信電話株式会社
• リッジ型光導波路の製造方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平5-130012   Applicant：株式会社日本製鋼所
• 特開平4-083203