Pat
J-GLOBAL ID:200903069174492170
珪素複合体及びその製造方法並びに非水電解質二次電池用負極材
Inventor:
,
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,
,
Applicant, Patent owner:
Agent (3):
小島 隆司
, 重松 沙織
, 小林 克成
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2003119192
Publication number (International publication number):2004323284
Application date: Apr. 24, 2003
Publication date: Nov. 18, 2004
Summary:
【解決手段】珪素の微結晶が珪素系化合物に分散した構造を有する粒子である(但し、粒子の表面を炭素でコーティングしてなるものを除く)ことを特徴とする珪素複合体。【効果】本発明の珪素複合体は、非水電解質二次電池用負極材として用いられて、良好なサイクル性を与え、その製造方法についても簡便であり、十分工業的規模の生産に耐え得るものである。【選択図】 なし
Claim (excerpt):
珪素の微結晶が珪素系化合物に分散した構造を有する粒子である(但し、粒子の表面を炭素でコーティングしてなるものを除く)ことを特徴とする珪素複合体。
IPC (4):
C01B33/18
, H01M4/02
, H01M4/48
, H01M4/62
FI (4):
C01B33/18 Z
, H01M4/02 D
, H01M4/48
, H01M4/62 Z
F-Term (32):
4G072AA38
, 4G072BB05
, 4G072GG01
, 4G072HH14
, 4G072MM36
, 4G072RR02
, 4G072TT01
, 4G072TT06
, 4G072UU30
, 5H050AA07
, 5H050AA08
, 5H050BA17
, 5H050CA02
, 5H050CA08
, 5H050CA09
, 5H050CA11
, 5H050CB02
, 5H050CB08
, 5H050CB29
, 5H050DA09
, 5H050EA09
, 5H050FA17
, 5H050FA19
, 5H050GA02
, 5H050GA10
, 5H050GA27
, 5H050HA01
, 5H050HA02
, 5H050HA05
, 5H050HA07
, 5H050HA13
, 5H050HA14
Patent cited by the Patent:
Cited by applicant (3)
-
高純度SiO2の製造方法および装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2001-115773
Applicant:新日本製鐵株式会社
-
ケイ素/酸化ケイ素の面平行な構造
Gazette classification:公表公報
Application number:特願2004-513386
Applicant:チバスペシャルティケミカルズホールディングインコーポレーテッド
-
非水電解質二次電池用負極活物質及び非水電解質二次電池
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2002-280303
Applicant:株式会社東芝
Cited by examiner (3)
-
高純度SiO2の製造方法および装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2001-115773
Applicant:新日本製鐵株式会社
-
ケイ素/酸化ケイ素の面平行な構造
Gazette classification:公表公報
Application number:特願2004-513386
Applicant:チバスペシャルティケミカルズホールディングインコーポレーテッド
-
非水電解質二次電池用負極活物質及び非水電解質二次電池
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2002-280303
Applicant:株式会社東芝
Article cited by the Patent:
Cited by applicant (1)
Cited by examiner (1)
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