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J-GLOBAL ID:200903069237562459

ヘキサノールの脱水反応方法

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1): 須藤 政彦
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2003373767
Publication number (International publication number):2005132809
Application date: Oct. 31, 2003
Publication date: May. 26, 2005
Summary:
【課題】 二酸化炭素を含有する超臨界水又は亜臨界水を反応媒体として、有機化合物の脱水反応又は水和反応を遂行する新規反応方法を提供する。【解決手段】 大過剰の二酸化炭素を加えた超臨界水又は亜臨界水を反応媒体として、硫酸、塩酸等のような強酸を添加しないで、酸触媒反応である有機化合物の脱水反応又は水和反応を選択的に遂行することを特徴とする有機化合物の無触媒反応方法。【効果】 本発明の反応方法では、超臨界水又は亜臨界水の酸触媒効果を著しく向上させることが可能であり、例えば、シクロヘキサノールを脱水することによりシクロヘキセンを生成する反応では、60%の高収率が得られた。【選択図】図2
Claim (excerpt):
超臨界水又は亜臨界水に大過剰の二酸化炭素を加えた反応媒体中で、硫酸、塩酸等のような強酸を添加しないで、酸触媒反応である有機化合物の脱水反応又は水和反応を選択的に遂行することを特徴とする有機化合物の無触媒反応方法。
IPC (6):
C07C1/24 ,  B01J3/00 ,  C07B61/00 ,  C07C13/20 ,  C07C29/04 ,  C07C35/08
FI (6):
C07C1/24 ,  B01J3/00 A ,  C07B61/00 B ,  C07C13/20 ,  C07C29/04 ,  C07C35/08
F-Term (13):
4H006AA02 ,  4H006AC13 ,  4H006AC41 ,  4H006AC90 ,  4H006BA90 ,  4H006BB30 ,  4H006BB31 ,  4H006BC10 ,  4H006BC11 ,  4H006BC15 ,  4H006BC33 ,  4H006FC22 ,  4H006FE12
Patent cited by the Patent:
Cited by applicant (3) Cited by examiner (5)
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