IZOスパッタリングターゲットの製造方法

Inventor： ,
Applicant, Patent owner：
Agent (2)：大谷保 , 東平正道
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2005193504
Publication number (International publication number)：2007008780
Application date： Jul. 01, 2005
Publication date： Jan. 18, 2007
Summary：

【課題】 IZOスパッタリングターゲットの製造において、IZOスパッタリングターゲットとしての特性を維持しつつ、工程を削減し、かつ焼結温度を下げることにより生産性の向上及び製造コストの低減が可能となる製造方法を提供すること。【解決手段】特定の性状を有する酸化インジウム粉末と酸化亜鉛粉末とを、又はこれらの粉末を主成分とする原料粉末を混合粉砕して微粉末を得る混合粉砕工程、前記微粉末を成型して成型物を得る成型工程、前記成型物を加圧下、酸素雰囲気中1100〜1250°Cで焼結して焼結体を得る焼結工程を含むことを特徴とするIZOスパッタリングターゲットの製造方法である。

Claim (excerpt)：

酸化インジウム粉末と酸化亜鉛粉末とを、又はこれらの粉末を主成分とする原料粉末を混合粉砕して微粉末を得る混合粉砕工程、前記微粉末を成型して成型物を得る成型工程、前記成型物を加圧下、酸素雰囲気中1100〜1250°Cで焼結して焼結体を得る焼結工程を含むことを特徴とするIZOスパッタリングターゲットの製造方法であって、前記酸化インジウム粉末の比表面積が8〜10m2/gであり、前記酸化亜鉛粉末の比表面積が10m2/g以上であるIZOスパッタリングターゲットの製造方法。

IPC (2)：

C04B 35/00 , C23C 14/34

FI (2)：

C04B35/00 J , C23C14/34 A

F-Term (19)：

4G030AA32 , 4G030AA34 , 4G030BA01 , 4G030BA02 , 4G030BA14 , 4G030BA15 , 4G030CA04 , 4G030CA07 , 4G030GA03 , 4G030GA04 , 4G030GA09 , 4G030GA11 , 4G030GA19 , 4G030GA22 , 4G030GA25 , 4G030GA27 , 4G030GA29 , 4K029DC05 , 4K029DC09

Patent cited by the Patent：

Cited by applicant (3)

透明導電膜の製造方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平6-079645 Applicant：グンゼ株式会社
透明導電材料、透明導電ガラス及び透明導電フィルム
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平11-058383 Applicant：出光興産株式会社
スパッタリングターゲット、透明導電膜およびそれらの製造法
Gazette classification：再公表公報 Application number：JP2002006888 Applicant：出光興産株式会社

Cited by examiner (1)

IZOスパッタリングターゲットの製造方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2001-161583 Applicant：株式会社日鉱マテリアルズ

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