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J-GLOBAL ID：200903069489843779
重合体及びその製造方法、並びにそれを含有する膜形成用組成物
Inventor：
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Applicant, Patent owner：
Agent (1)：
岩見谷 周志
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2001131386
Publication number (International publication number)：2002322246
Application date： Apr. 27, 2001
Publication date： Nov. 08, 2002
Summary：
【要約】【課題】 膜形成に好適に用いられる重合体及びその製造方法、この重合体を含有し、短時間焼成が可能であり、耐熱性、弾性率及びクラック耐性に優れ、低誘電性の膜を得ることができる膜形成用組成物を提供する。【解決手段】 特定のジハロゲン化合物(例えば1,2-ジヨードベンゼン)と、特定のジエチニル化合物(例えば4,4’-ジエチニルジフェニルエーテル)を触媒(例えば遷移金属化合物及び塩基性化合物を含有する触媒)の存在下で反応させ、特定の構造を有する重合体を得る。この重合体を溶媒に溶解して膜形成用組成物を得る。
Claim (excerpt)：
下記一般式(1)【化1】[式中、Zは下記一般式(2)及び一般式(3)【化2】【化3】(式中、R1及びR2は、独立に単結合、-O-、-CO-、-CH2-、-COO-、-CONH-、-S-、-SO2-、フェニレン基、イソプロピリデン基、ヘキサフルオロイソプロピリデン基、ジフェニルメチリデン基又はフルオレニレン基を表わし、R3、R4、R5及びR6は独立に炭素原子数1〜20の炭化水素基、シアノ基、ニトロ基、炭素原子数1〜20のアルコキシル基又はアリール基を表わし、aは0〜3の整数を示し、b〜eは、独立に0〜4の整数を示す。)で表わされる2価の芳香族基からなる群から選ばれる少なくとも1種の2価の芳香族基であり、Yは下記一般式(4)及び一般式(5)【化4】【化5】(式中、R7及びR8は、独立に単結合、-O-、-CO-、-CH2-、-COO-、-CONH-、-S-、-SO2-、フェニレン基、イソプロピリデン基、ヘキサフルオロイソプロピリデン基、ジフェニルメチリデン基又はフルオレニレン基を表わし、R9、R10、R11及びR12は独立に炭素原子数1〜20の炭化水素基、シアノ基、ニトロ基、炭素原子数1〜20のアルコキシル基又はアリール基を表わし、fは0〜3の整数を示し、g〜jは、独立に0〜4の整数を示す。)で表わされる2価の芳香族基からなる群から選ばれる少なくとも1種の2価の芳香族基である。]で表わされる繰返し単位を有していて、重合体骨格中にフルオレニレン基及びo-フェニレン基から選ばれる少なくとも一方の基を有する重合体。
IPC (6)：
C08G 61/00
, C08J 5/18 CEZ
, C09D165/00
, C09D201/00
, H01L 21/312
, C08L 65:00
C08G 61/00
, C08J 5/18 CEZ
, C09D165/00
, C09D201/00
, H01L 21/312 A
, C08L 65:00
4F071AA69
, 4F071AH12
, 4J032CA04
, 4J032CB01
, 4J032CC01
, 4J032CD02
, 4J032CG01
, 4J038DN011
, 4J038KA06
, 4J038KA08
, 4J038KA09
, 4J038LA02
, 4J038NA11
, 4J038NA12
, 4J038NA17
, 4J038NA21
, 4J038NA23
, 4J038PA19
, 4J038PB09
, 4J038PC02
, 4J038PC08
, 5F058AA02
, 5F058AA10
, 5F058AF04
, 5F058AH02
Cited by examiner (12)
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