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J-GLOBAL ID：200903069552490954

N-アセチルヘパロサン画分及びその製造法

Inventor： 菊池 博 ,  坂井 登紀子 ,  館林 定雄 ,  鈴木 喜義 ,  金子 卓嗣
Applicant, Patent owner： 生化学工業株式会社
Agent (1)： 堀口 努
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2002180538
Publication number (International publication number)：2004018840
Application date： Jun. 20, 2002
Publication date： Jan. 22, 2004
Summary：

【課題】高純度で均一な、分子量分散度が低いN-アセチルヘパロサンおよび該N-アセチルヘパロサンを高純度に含むN-アセチルヘパロサン画分を提供することができる。【解決手段】ゲルろ過クロマトグラフィー法によって測定した重量平均分子量が35,000〜45,000であり、分子量分散度が1.1〜1.9であるN-アセチルヘパロサン、該N-アセチルヘパロサンを含み、核酸含量が0.1%以下、かつ遊離アミン含量が0.03μM/mg以下である高純度かつ均一なN-アセチルヘパロサン画分。【選択図】なし

Claim (excerpt)：

ゲルろ過クロマトグラフィー法によって測定した重量平均分子量が35,000〜45,000であり、分子量分散度が1.1〜1.9であるN-アセチルヘパロサン。

IPC (2)：

C08B37/10 ,  C12P19/26

FI (2)：

C08B37/10 ,  C12P19/26

F-Term (22)：

4B064AF21 ,  4B064BA14 ,  4B064CA02 ,  4B064CE08 ,  4B064DA01 ,  4C090AA01 ,  4C090AA04 ,  4C090AA07 ,  4C090BA68 ,  4C090BB18 ,  4C090BB22 ,  4C090BB32 ,  4C090BB36 ,  4C090BB53 ,  4C090BC15 ,  4C090BC20 ,  4C090BD37 ,  4C090CA04 ,  4C090CA13 ,  4C090CA33 ,  4C090CA42 ,  4C090DA23

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (4)

• N-アセチルヘパロサンの断片化用酵素、該酵素を含む調製物の製造、及び、該酵素を使用する断片化法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平5-039066   Applicant：エルフ・サノフイ
• 高分子量のN,O-硫酸化ヘパロサン類、その製造方法および医薬組成物
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平4-318638   Applicant：エルフ・サノフィ
• セメント用混和剤
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平4-331937   Applicant：三井造船株式会社
• 多糖類の製造方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平5-328200   Applicant：工業技術院長, 伯東株式会社, 協和醗酵工業株式会社

Article cited by the Patent：

Cited by examiner (3)

• 糖質II -プロテオグリカンとグリコサミノグリカン-, 1991, 第1版, pp.28
• Eur. J. Biochem., 1981, Vol.116,No.2, pp.359-364
• J. Bioact. Compat. Polym., 1996, Vol.11,No.4, pp.301-311