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J-GLOBAL ID:200903069816425021
走査型露光装置
Inventor:
,
,
Applicant, Patent owner:
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1995054210
Publication number (International publication number):1996250399
Application date: Mar. 14, 1995
Publication date: Sep. 27, 1996
Summary:
【要約】【目的】 簡易なアライメントマーク検出系でありながらも高精度な重ね合わせ精度を達成することができるアライメント検出系を備えた走査型露光装置を提供する。【構成】 複数の投影光学系12a〜12eを所定の方向に沿って配列した走査型露光装置で、感光基板14上のアライメントマーク24を複数の投影光学系のうち少なくとも1つを介してマスク10上のアライメントマーク23とともにマーク検出手段20a,20bで検出する、
Claim (excerpt):
光源からの光束をマスクのパターン領域内の複数の部分領域のそれぞれに照明する複数の照明光学系と、所定の方向に沿って複数配列されるとともに、前記マスクを透過した前記光束による前記複数の部分領域それぞれのほぼ等倍の正立像を基板上に投影する複数の投影光学系と、前記マスク上の第1のアライメントマークを検出するとともに、前記複数の投影光学系のうち少なくとも1つの投影光学系を介して前記基板の表面とほぼ同一の平面内に設けられた第2のアライメントマークを検出するマーク検出手段とを備え、前記マーク検出手段の検出結果に基づいて前記マスクと前記感光基板とを位置決めした状態で、前記マスクと前記基板とを前記投影光学系に対して、前記所定の方向とほぼ直交する方向に走査することによって、前記パターン領域の像を前記基板上に露光することを特徴とする走査型露光装置。
IPC (3):
H01L 21/027
, G03F 7/20 521
, G03F 9/00
FI (4):
H01L 21/30 518
, G03F 7/20 521
, G03F 9/00 H
, H01L 21/30 525 F
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (3)
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露光装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平5-161588
Applicant:株式会社ニコン
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ステージ駆動方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平5-076045
Applicant:株式会社ニコン
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位置検出装置及びそれを用いた半導体素子の製造方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平5-107474
Applicant:キヤノン株式会社
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