Pat
J-GLOBAL ID:200903069923734576
高速摺動機構及びその製造方法
Inventor:
,
Applicant, Patent owner:
Agent (1):
的場 基憲
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2005191942
Publication number (International publication number):2007010051
Application date: Jun. 30, 2005
Publication date: Jan. 18, 2007
Summary:
【課題】スティックスリップが生じにくく、摩擦係数を一層低減できる高速摺動機構及びその製造方法を提供すること。【解決手段】Ra0.005〜0.1μmである金属部材表面に、水素を10原子%以下含有するDLCが被覆された高速摺動部材Aと、Ra0.2μm以下且つRsk0〜4μmである高速摺動部材Bとが摺動して成る高速摺動機構である。高速摺動部材AのDLC表面の硬度が70〜90GPaである。 高速摺動部材Aに、水素含有量が10原子%以下であるDLCをイオンプレーティング法により被覆し、その後エアロラップ処理を行い高速摺動機構を製造する。【選択図】なし
Claim (excerpt):
高速摺動部材A,Bが互いに摺動して成る高速摺動機構であって、
高速摺動部材Aは、表面粗さがRa0.005〜0.1μmである金属部材表面に、水素を10原子%以下の割合で含有するダイヤモンドライクカーボンが被覆されて成り、
高速摺動部材Bは、表面粗さがRa0.2μm以下且つRsk0〜4μmであることを特徴とする高速摺動機構。
IPC (4):
F16H 55/06
, C10M 103/02
, C23C 14/06
, C23C 30/00
FI (4):
F16H55/06
, C10M103/02 Z
, C23C14/06 F
, C23C30/00 C
F-Term (18):
3J030AC01
, 3J030BC03
, 3J030CA10
, 4H104AA04A
, 4H104EA21A
, 4H104LA03
, 4H104PA01
, 4K029BA34
, 4K029BC02
, 4K029BD04
, 4K029CA03
, 4K029DD06
, 4K044AA03
, 4K044BA18
, 4K044BB01
, 4K044BC01
, 4K044CA13
, 4K044CA67
Patent cited by the Patent:
Return to Previous Page