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J-GLOBAL ID：200903069961045032

外観計測装置

Inventor：
杉村 克弥

About 杉村 克弥

, 
中原 徳雄

About 中原 徳雄


Applicant, Patent owner：
株式会社ニッケ機械製作所

About 株式会社ニッケ機械製作所


Agent (5)： 角田 嘉宏 ,  古川 安航 ,  西谷 俊男 ,  幅 慶司 ,  内山 泉
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2003012221
Publication number (International publication number)：2004226160
Application date： Jan. 21, 2003
Publication date： Aug. 12, 2004
Summary：
【課題】構造が簡単であって高い精度の測定を行うことができる外観計測装置を提供する。【解決手段】光の強度が周期的に変化する縞状の光パターンPを計測対象物Mの表面上に照射する光パターン照射手段と、この光パターン照射手段からの光パターンPが照射された計測対象物Mの画像を撮影する撮影手段と、計測対象物Mと光パターンPとの相対位置関係を変化させる変位手段とを備えており、撮影手段は光パターンPの周期と異なる周期の間隔で配置された、上記相対位置関係を変化させる方向と交差する方向に延びる少なくとも3つの撮影範囲を設定することが可能なように構成されており、この撮影手段によって撮影された少なくとも3つの画像上の光の強度分布に基づいて位相シフト法により計測対象物の各部位の高さ情報を得るべく演算する演算手段とを備えてなる。【選択図】 図1
Claim (excerpt)：
光の強度が周期的に変化する縞状の光パターンを計測対象物の表面上に照射する光パターン照射手段と、 上記光パターン照射手段からの光パターンが照射された上記計測対象物の画像を撮影する撮影手段と、 上記計測対象物と上記光パターンとの相対位置関係を変化させる変位手段とを備えており、 上記撮影手段は上記光パターンの周期と異なる周期の間隔で配置された、上記相対位置関係を変化させる方向と交差する方向に延びる少なくとも3つの撮影範囲を設定することが可能なように構成されており、 この撮影手段によって撮影された少なくとも3つの、上記撮影範囲に対応する画像上の光の強度分布に基づいて位相シフト法により上記計測対象物の各部位の高さ情報を得るべく演算する演算手段とを備えてなる、外観計測装置。
IPC (2)：
G01B11/25 ,  G01B11/02
FI (2)：
G01B11/24 E ,  G01B11/02 H
F-Term (23)：
2F065AA24 ,  2F065AA54 ,  2F065CC01 ,  2F065CC28 ,  2F065FF07 ,  2F065FF42 ,  2F065HH05 ,  2F065HH06 ,  2F065HH07 ,  2F065HH12 ,  2F065JJ03 ,  2F065JJ26 ,  2F065PP12 ,  2F065QQ21 ,  2F065QQ24 ,  2F065QQ25 ,  2F065QQ32 ,  2F065QQ51 ,  5E319AA01 ,  5E319AC01 ,  5E319BB01 ,  5E319CD53 ,  5E319GG20
Patent cited by the Patent：
Cited by examiner (4)
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