Pat
J-GLOBAL ID：200903070037514253

アラインメントシステムおよびアラインメントシステムと共に使用するためのアラインメントマーク

Inventor：
ハルセボス,エド,マリア

About ハルセボス,エド,マリア

, 
ビジネン,フランシスカス,ゴデフリドゥス,キャスパー

About ビジネン,フランシスカス,ゴデフリドゥス,キャスパー

, 
ワーナール,パトリック

About ワーナール,パトリック


Applicant, Patent owner：
エーエスエムエル ネザーランズ ビー.ブイ.

About エーエスエムエル ネザーランズ ビー.ブイ.


Agent (2)： 稲葉 良幸 ,  大貫 敏史
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2008326729
Publication number (International publication number)：2009177159
Application date： Dec. 24, 2008
Publication date： Aug. 06, 2009
Summary：
【課題】リソグラフィ装置において使用されるアラインメントシステムを提供する。【解決手段】本発明の一実施形態によるリソグラフィ装置が、基板またはレチクルを位置合わせするためのアラインメントシステムを備える。アラインメントシステムは、基板上またはレチクル上のアラインメントマークを照明する放射源を備え、アラインメントマークは、最大長シーケンスマークまたは多重周期的粗アラインメントマークを含む。アラインメントマークから生成されるアラインメント信号が、検出システムにより検出される。プロセッサが、アラインメント信号に基づいて基板またはレチクルのアラインメント位置を決定する。【選択図】図2
Claim (excerpt)：
基板またはレチクルを位置合わせするためのアライメントシステムであって、 前記基板上または前記レチクル上のアラインメントマークを使用中に照明する放射源であって、前記アラインメントマークが最大長シーケンスアラインメントマーク、ランダムシーケンスアラインメントマークまたは多重周期的粗アラインメントマークを含む、放射源と、 前記アラインメントマークから生成されるアラインメント信号を検出する検出システムと、 前記アラインメント信号からアラインメント位置を決定するプロセッサとを備え、 前記最大長シーケンスマークは、複数の非周期的な隣接するラインアンドスペースを含み、 前記多重周期的粗アラインメントマークは、中心ラインに関して対称に配置された第1の周期性を有する第1および第2のセクションと第2の周期性を有する第3のセクションとを少なくとも有する複数の隣接するラインアンドスペースを含む、アラインメントシステム。
IPC (3)：
H01L 21/027 ,  G03F 9/00 ,  G01B 11/00
FI (4)：
H01L21/30 525F ,  H01L21/30 522D ,  G03F9/00 H ,  G01B11/00 G
F-Term (34)：
2F065AA03 ,  2F065AA07 ,  2F065AA09 ,  2F065AA20 ,  2F065BB02 ,  2F065BB28 ,  2F065CC18 ,  2F065CC19 ,  2F065DD02 ,  2F065DD03 ,  2F065FF48 ,  2F065FF52 ,  2F065GG04 ,  2F065HH04 ,  2F065LL28 ,  2F065LL46 ,  2F065LL47 ,  2F065PP12 ,  2F065QQ17 ,  2F065QQ25 ,  2F065QQ29 ,  2F065QQ39 ,  2F065QQ44 ,  2F065TT02 ,  2F065TT08 ,  5F046BA03 ,  5F046EA07 ,  5F046EA09 ,  5F046EB01 ,  5F046EB02 ,  5F046ED01 ,  5F046FA10 ,  5F046FB19 ,  5F046FC04
Patent cited by the Patent：
Cited by examiner (5)
Show all

Return to Previous Page

TOP

BOTTOM