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J-GLOBAL ID:200903070072296447

X線発生装置及びこれを有するX線露光装置及びX線の発生方法

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1999148395
Publication number (International publication number):2000340395
Application date: May. 27, 1999
Publication date: Dec. 08, 2000
Summary:
【要約】【課題】 安定してX線を発生させる。【解決手段】 本発明のX線発生装置は、パルスレーザー光を減圧された容器中の標的に集光することにより、該標的をプラズマ化し該プラズマよりX線を発生させるX線発生装置において、該標的を構成する物質を前記容器中に送出する標的材料送出部の位置又はその位置の変化を検出する検出部を有することを特徴とするものである。
Claim (excerpt):
パルスレーザー光を減圧された容器中の標的に集光することにより、該標的をプラズマ化し該プラズマよりX線を発生させるX線発生装置において、該標的を構成する物質を前記容器中に送出する標的材料送出部の位置又はその位置の変化を検出する検出部を有することを特徴とするX線発生装置。
F-Term (12):
4C092AA06 ,  4C092AA07 ,  4C092AB10 ,  4C092AB11 ,  4C092BD01 ,  4C092BD18 ,  4C092BD20 ,  4C092CE01 ,  4C092CF35 ,  4C092CF38 ,  4C092CF42 ,  4C092DD24
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (2)
  • X線発生装置
    Gazette classification:公開公報   Application number:特願平8-218295   Applicant:株式会社ニコン
  • レーザプラズマX線源
    Gazette classification:公開公報   Application number:特願平5-229174   Applicant:株式会社ニコン

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