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J-GLOBAL ID：200903070201919413

ビームホモジナイザーおよびレーザー照射装置

Inventor：
田中 幸一郎

About 田中 幸一郎


Applicant, Patent owner：
株式会社半導体エネルギー研究所

About 株式会社半導体エネルギー研究所


Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2000052833
Publication number (International publication number)：2000323428
Application date： Feb. 29, 2000
Publication date： Nov. 24, 2000
Summary：
【要約】【課題】 線状レーザー光の長手方向のエネルギー分布を均一にする。【解決手段】ビームを分割するためのシリンドリカルレンズ群202、203と、分割されたビームを集光するためのシリンドリカルレンズ204、シリンドリカルレンズ群206を有するビームホモジナイザーにおいて、分割されたビームを集光するためのシリンドリカルレンズ群206の各シリンドリカルレンズを通過した線状ビームの長手方向の位相をずらしてから、合成することで、線状ビームの被照射面での干渉じまの強度を均一にする。
Claim (excerpt)：
1本のビームを第1の方向に(2n+ 1)本のビームに分割する第1の分割用光学レンズと、1本のビームを前記第1の方向と垂直な第2の方向にN(n-1)本のビームに分割する第2の分割用光学レンズと、前記第2の方向に集光して、前記第2の方向に分割された複数のビームを合成する第1の合成用レンズと、前記第1の方向に集光して、前記第1の方向に分割された複数のビームを合成する第2の合成用レンズと、を含んだビームホモジナイザーであって、前記第2の合成用レンズは(n' -1)個のシリンドリカルレンズでなり、前記(n' -1)個のシリンドリカルレンズのそれぞれの主点を前記第2の方向に直交する平面に正射影した像は、同一直線上にd/(n' -1)の間隔で並んだ(n' -1)個の点となり、前記dは、前記前記第2の合成用レンズの1つのシリンドリカルレンズを透過したビームが照射面で形成する干渉縞のピークの間隔であり、前記Nは自然数であり、前記nは3以上の整数であり、前記n' は3≦n' ≦nを満たす整数であることを特徴とするビームホモジナイザー。
IPC (3)：
H01L 21/268 ,  G02B 27/09 ,  H01L 21/20
FI (3)：
H01L 21/268 J ,  H01L 21/20 ,  G02B 27/00 E
Patent cited by the Patent：
Cited by applicant (4)
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Cited by examiner (5)
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