Pat
J-GLOBAL ID:200903070201919413
ビームホモジナイザーおよびレーザー照射装置
Inventor:
Applicant, Patent owner:
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2000052833
Publication number (International publication number):2000323428
Application date: Feb. 29, 2000
Publication date: Nov. 24, 2000
Summary:
【要約】【課題】 線状レーザー光の長手方向のエネルギー分布を均一にする。【解決手段】ビームを分割するためのシリンドリカルレンズ群202、203と、分割されたビームを集光するためのシリンドリカルレンズ204、シリンドリカルレンズ群206を有するビームホモジナイザーにおいて、分割されたビームを集光するためのシリンドリカルレンズ群206の各シリンドリカルレンズを通過した線状ビームの長手方向の位相をずらしてから、合成することで、線状ビームの被照射面での干渉じまの強度を均一にする。
Claim (excerpt):
1本のビームを第1の方向に(2n+ 1)本のビームに分割する第1の分割用光学レンズと、1本のビームを前記第1の方向と垂直な第2の方向にN(n-1)本のビームに分割する第2の分割用光学レンズと、前記第2の方向に集光して、前記第2の方向に分割された複数のビームを合成する第1の合成用レンズと、前記第1の方向に集光して、前記第1の方向に分割された複数のビームを合成する第2の合成用レンズと、を含んだビームホモジナイザーであって、前記第2の合成用レンズは(n' -1)個のシリンドリカルレンズでなり、前記(n' -1)個のシリンドリカルレンズのそれぞれの主点を前記第2の方向に直交する平面に正射影した像は、同一直線上にd/(n' -1)の間隔で並んだ(n' -1)個の点となり、前記dは、前記前記第2の合成用レンズの1つのシリンドリカルレンズを透過したビームが照射面で形成する干渉縞のピークの間隔であり、前記Nは自然数であり、前記nは3以上の整数であり、前記n' は3≦n' ≦nを満たす整数であることを特徴とするビームホモジナイザー。
IPC (3):
H01L 21/268
, G02B 27/09
, H01L 21/20
FI (3):
H01L 21/268 J
, H01L 21/20
, G02B 27/00 E
Patent cited by the Patent:
Cited by applicant (4)
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レーザー照射装置及びレーザー照射方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平9-118888
Applicant:株式会社半導体エネルギー研究所
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レーザービーム照射の均一性を向上する方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平9-159105
Applicant:成序三
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レーザー照射装置およびレーザー照射方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平9-061781
Applicant:株式会社半導体エネルギー研究所
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特許第3462053号
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Cited by examiner (5)
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レーザー照射装置及びレーザー照射方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平9-118888
Applicant:株式会社半導体エネルギー研究所
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レーザービーム照射の均一性を向上する方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平9-159105
Applicant:成序三
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レーザー照射装置およびレーザー照射方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平9-061781
Applicant:株式会社半導体エネルギー研究所
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特許第3462053号
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特許第3462053号
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