レーザー照射装置およびレーザー照射方法

Inventor：
Applicant, Patent owner：
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1997061781
Publication number (International publication number)：1998242073
Application date： Feb. 28, 1997
Publication date： Sep. 11, 1998
Summary：

【要約】【課題】線状のレーザー光を走査して照射した場合における照射むらを抑制する。【解決手段】線状のレーザーパルスを斜めに走査して照射する。こうした場合、線状レーザービームの長手方向に周期的に存在するピークが重ならずに照射が行われるので、照射むらを抑制することができる。

Claim (excerpt)：

レーザビームを分割、再結合させて形成するレーザービーム発生手段と、前記分割された方向に直角な方向に対して、所定の角度θ(θ≠0°)を有した方向にレーザービームを走査して照射する手段と、を有し、前記レーザービームは、パルス発振型であり、前記レーザービームのパルスは、被照射領域において、一部が重ねられて照射されることを特徴とするレーザ照射装置。

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (7)

特開平4-082213
レーザーアニール法及び液晶表示装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平7-009369 Applicant：松下電器産業株式会社
レーザー処理方法及びレーザー処理装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平8-158848 Applicant：株式会社半導体エネルギー研究所

Show all

Return to Previous Page