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J-GLOBAL ID:200903070247520132

凹版オフセット印刷方法

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1): 亀井 弘勝 (外1名)
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1996267496
Publication number (International publication number):1998109471
Application date: Oct. 08, 1996
Publication date: Apr. 28, 1998
Summary:
【要約】【課題】 特にブランケットから被印刷物へのインキの完全転移を実現し、印刷形状が良好な微細パターンを形成できるオフセット印刷方法を提供する。【解決手段】 凹版の凹部に充填したインキをブランケットの表面に転移させ、次いでこのインキを被印刷物の表面に転移させてインキ層を形成する凹版オフセット印刷方法において、ブランケットの表面に転移されたインキに対して溶剤を吹きつけた後、インキをブランケットから被印刷物の表面に転移させる。
Claim (excerpt):
凹版の凹部に充填したインキをブランケットの表面に転移させ、次いでこのインキを被印刷物の表面に転移させてインキ層を形成する凹版オフセット印刷方法において、ブランケットの表面に転移されたインキに対して溶剤を吹きつけた後、インキをブランケットから被印刷物の表面に転移させることを特徴とする凹版オフセット印刷方法。
IPC (5):
B41M 1/10 ,  B41F 9/01 ,  B41F 17/14 ,  G02B 5/20 101 ,  H05K 3/12
FI (5):
B41M 1/10 ,  B41F 9/01 ,  B41F 17/14 E ,  G02B 5/20 101 ,  H05K 3/12 Z
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (5)
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