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J-GLOBAL ID：200903070589455863

ネガ型レジスト組成物

Inventor： 末次 益実 ,  楠本 武宏 ,  竹山 尚幹
Applicant, Patent owner： 住友化学工業株式会社
Agent (1)： 久保山 隆 (外1名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1996223780
Publication number (International publication number)：1998069082
Application date： Aug. 26, 1996
Publication date： Mar. 10, 1998
Summary：

【要約】【課題】 フェノール性水酸基が部分的にアルキルエーテル化されたポリビニルフェノール系樹脂を含有するアルカリ可溶性樹脂、酸発生剤、及び架橋剤を含有するネガ型レジスト組成物において、解像度とプロファイルの向上を図る。【解決手段】 フェノール性水酸基が部分的にアルキルエーテル化されたポリビニルフェノール系樹脂を含有するアルカリ可溶性樹脂、酸発生剤としてのN-ヒドロキシイミド化合物のスルホン酸エステル、及び架橋剤を含有するネガ型レジスト組成物であって、前記ポリビニルフェノール系樹脂として、ゲル浸透クロマトグラフィーにより求めた分散度が1.01〜2の範囲にあるものを用いる。

Claim (excerpt)：

フェノール性水酸基が部分的にアルキルエーテル化されたポリビニルフェノール系樹脂を含有するアルカリ可溶性樹脂、酸発生剤としてのN-ヒドロキシイミド化合物のスルホン酸エステル、及び架橋剤を含有し、該ポリビニルフェノール系樹脂のゲル浸透クロマトグラフィーにより求めた分散度が1.01〜2の範囲にあることを特徴とするネガ型レジスト組成物。

IPC (5)：

G03F 7/038 601 ,  C08K 5/42 ,  C08L 25/18 KGA ,  G03F 7/004 503 ,  H01L 21/027

FI (5)：

G03F 7/038 601 ,  C08K 5/42 ,  C08L 25/18 KGA ,  G03F 7/004 503 A ,  H01L 21/30 502 R

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (2)

• フォトレジスト組成物
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平6-115531   Applicant：住友化学工業株式会社
• レジスト組成物
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平6-193724   Applicant：日本ゼオン株式会社