レジスト組成物

Inventor： , ,
Applicant, Patent owner：
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1994193724
Publication number (International publication number)：1996044061
Application date： Jul. 26, 1994
Publication date： Feb. 16, 1996
Summary：

【要約】【目的】新規な感放射線性レジスト組成物を提供する。【構成】アルカリ可溶性樹脂、架橋剤および放射線の照射により酸を発生する成分を含有する組成物であって、アルカリ可溶性樹脂が狭分散性の水素添加フェノール樹脂であることを特徴とするレジスト組成物。

Claim (excerpt)：

アルカリ可溶性樹脂、架橋剤および放射線の照射により酸を発生する成分を含有する組成物であって、アルカリ可溶性樹脂が狭分散性の水素添加フェノール樹脂であることを特徴とするレジスト組成物。

IPC (5)：

G03F 7/038 505 , G03F 7/004 503 , G03F 7/023 511 , G03F 7/028 , H01L 21/027

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (11)

ネガ型化学増幅レジスト組成物
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平4-000740 Applicant：富士通株式会社
化学増幅型レジストパターンの形成方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平4-006652 Applicant：富士通株式会社
化学増幅型レジストパターンの形成方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平4-002966 Applicant：富士通株式会社

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