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J-GLOBAL ID:200903070590600516

揮発性物質による汚染地下水の浄化方法およびその浄化装置

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1): 一色 健輔 (外3名)
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1999310426
Publication number (International publication number):2001129539
Application date: Oct. 29, 1999
Publication date: May. 15, 2001
Summary:
【要約】【課題】 超高圧の圧搾空気を短時間の間隔でパルス状にして、間欠的に瞬時にかつ爆発的に帯水層の下層部分に吹き込むことにより、空気を遠くまで到達させて気相部を広範囲に形成し、揮発性物質の気化を加熱することなく効率良く促進させる。【解決手段】 帯水層102に位置する注入井14から超高圧の圧搾空気を短時間の間隔でパルス状にして間欠的に地下水12中に注入して揮発性物質を気化促進させる揮発性物質の気化工程と、該帯水層102の上方地盤層104に位置するガス吸引井18から当該上方地盤層104中に帯水層102より浸透してくる揮発性物資のガスを吸引するガス吸引工程と、この吸引したガスを導入して処理するガス処理工程と、を備える。
Claim (excerpt):
帯水層に位置する注入井から超高圧の圧搾空気を、短時間の間隔でパルス状にして間欠的に地下水中に注入することにより地下水中に溶出した揮発性物質を気化促進する揮発性物質の気化工程と、該帯水層の上方地盤層に位置するガス吸引井から該上方地盤層に浸透しているガスを吸引するガス吸引工程と、この吸引したガスを導入して処理するガス処理工程と、を備えたことを特徴とする揮発性物質による汚染地下水の浄化方法。
F-Term (5):
4D037AA01 ,  4D037AB18 ,  4D037BA23 ,  4D037BB05 ,  4D037BB07
Patent cited by the Patent:
Cited by applicant (4)
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Cited by examiner (2)

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