レーザプラズマX線発生装置

Inventor：
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：後藤洋介 (外1名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2000125427
Publication number (International publication number)：2001015296
Application date： Apr. 26, 2000
Publication date： Jan. 19, 2001
Summary：

【要約】【課題】ターゲット層に覆われる基板構造体の交換を不要とし、かつ高尖頭パワーの高繰り返しパルスレーザ光による集光照射でも連続して安定高平均出力のパルスX線を発生することができる。【解決手段】回転する回転体11を極低温流体21で冷却し、回転体11の表面に間隙を設けて囲む固定壁51を備え、この間隙空間に液化された希ガスなどによるクライオ材31を供給路33から回転体11の冷却された表面に向けて供給し、パルスレーザ光41の集光照射を受けてプラズマおよびパルスX線を発生するクライオターゲット層34を回転体11の表面上に液体化状態または固体化状態の厚さほぼ10〜500μmに形成している。集光照射点44は円筒形回転体11の側面でも底面でもよく、回転軸12は軸方向またはその垂直方向に往復移動してクライオ材31の供給をクライオターゲット層34上で移送する。

Claim (excerpt)：

冷却して液体化および固体化の少なくとも一方となった化学的に不活性で室温ではガス状のクライオ材をクライオターゲットとしこのクライオターゲットに高尖頭パワーを有する繰り返しパルスレーザ光を集光照射して生じたプラズマからパルスX線を発生するレーザプラズマX線発生装置において、回転軸を有しかつ前記クライオターゲットの表面として熱伝導率のよい円筒形側面および前記回転軸に垂直面を成す一つの底面の少なくとも一方を有する回転体と、前記回転軸を駆動して前記回転体を回転させる回転駆動機構と、前記回転体の少なくとも前記表面を極低温に冷却する冷却手段と、前記回転体の前記表面に前記クライオ材を供給して所定の厚さのクライオターゲット層を形成するターゲット供給機構とを備えることを特徴とするレーザプラズマX線発生装置。

IPC (4)：

H05G 2/00 , G21K 5/08 , H05G 1/02 , H05H 1/24

FI (4)：

H05G 1/00 K , G21K 5/08 X , H05G 1/02 P , H05H 1/24

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (3)

特開平1-137543
X線発生装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平7-131262 Applicant：株式会社ニコン
ブロー成形ボトルの製造法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平3-156263 Applicant：三菱樹脂株式会社

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