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J-GLOBAL ID:200903070646208851

パターン欠陥検査方法及びその装置

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1): 鈴江 武彦 (外6名)
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1998323881
Publication number (International publication number):2000146857
Application date: Nov. 13, 1998
Publication date: May. 26, 2000
Summary:
【要約】【課題】本発明は、欠陥として影響度の小さい欠陥の検出感度を低下して欠陥検査を行う。【解決手段】フォトマスク1を撮像して得られる検査パターンデータと設計パターンデータとを比較してフォトマスク1上の欠陥を検査する場合、データ比較回路30内に備えられた判定切替え回路により、欠陥検査を行っている位置を示す位置データが欠陥検査を行う検査エリア内に設定された複数のエリアのうちいずれかのエリアにあるかを判定し、この判定されたエリアに応じた検出感度を選択する。
Claim (excerpt):
被検査体を撮像して得られる被検査データと予め設定された基準パターンとを比較して前記被検査体上の欠陥を検査するパターン欠陥検査方法において、前記欠陥検査を行う検査エリア内に設定された複数の領域ごとにそれぞれ検出感度を可変して前記欠陥の検査を行うことを特徴とするパターン欠陥検査方法。
IPC (4):
G01N 21/88 ,  G01B 11/30 ,  G06T 7/00 ,  H01L 21/66
FI (4):
G01N 21/88 645 A ,  G01B 11/30 A ,  H01L 21/66 J ,  G06F 15/62 405 A
F-Term (71):
2F065AA03 ,  2F065AA12 ,  2F065AA49 ,  2F065BB02 ,  2F065BB03 ,  2F065CC19 ,  2F065DD06 ,  2F065FF01 ,  2F065FF04 ,  2F065FF67 ,  2F065HH13 ,  2F065HH15 ,  2F065JJ03 ,  2F065JJ09 ,  2F065JJ26 ,  2F065NN11 ,  2F065PP12 ,  2F065QQ03 ,  2F065QQ07 ,  2F065QQ08 ,  2F065QQ13 ,  2F065QQ23 ,  2F065QQ25 ,  2F065QQ29 ,  2F065QQ47 ,  2F065RR08 ,  2F065RR09 ,  2G051AA56 ,  2G051AA90 ,  2G051AB02 ,  2G051AB20 ,  2G051BA00 ,  2G051CA03 ,  2G051CA04 ,  2G051CB02 ,  2G051DA07 ,  2G051EA08 ,  2G051EA12 ,  2G051EA14 ,  2G051EB01 ,  2G051EB02 ,  2G051ED07 ,  4M106AA09 ,  4M106BA04 ,  4M106CA39 ,  4M106DB04 ,  4M106DB30 ,  4M106DJ13 ,  4M106DJ14 ,  4M106DJ38 ,  5B057AA03 ,  5B057BA02 ,  5B057BA30 ,  5B057CA12 ,  5B057CA16 ,  5B057CB12 ,  5B057CB16 ,  5B057CC02 ,  5B057CH01 ,  5B057CH05 ,  5B057CH08 ,  5B057CH12 ,  5B057CH18 ,  5B057DA03 ,  5B057DA07 ,  5B057DA08 ,  5B057DA11 ,  5B057DB02 ,  5B057DC04 ,  5B057DC16 ,  5B057DC32
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (5)
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