塗布装置及び塗布方法

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Applicant, Patent owner：
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2000027849
Publication number (International publication number)：2000167470
Application date： Apr. 21, 1994
Publication date： Jun. 20, 2000
Summary：

【要約】【目的】レジスト液の消費量を少なくし、基板表面全体にわたって均一で所望の膜厚を有する薄膜を形成すること。【構成】レジスト前塗布用の細長ノズル46が、チャック9に保持された基板2表面上で、この基板2表面の外周形状に近似する形状を有する所定範囲に、レジスト液10をほぼ均一な厚さに供給する。レジスト液10が塗布された基板2を回転させることによって、基板2表面のレジスト液10をほぼ一様な速度で基板2表面の外周まで均一に広げることができる。したがって、レジスト液10が基板2の周辺から飛散する量を減少させて、レジスト液10の無駄を抑えることができる。細長ノズル46は洗浄用ノズル87aから噴出されるリンス溶剤によって洗浄されるので、常に清浄な塗布液を供給できる。

Claim (excerpt)：

基板の表面に所定の塗布液を供給しこの基板を回転させて基板の表面に薄膜を形成する塗布装置において、基板を水平に保って回転可能に保持する保持手段と、保持手段に保持された基板の表面上に塗布液を供給する細長ノズルと、この細長ノズルを基板の表面と平行に移動させるローダと、前記細長ノズルを洗浄する洗浄装置と、を備えることを特徴とする塗布装置。

IPC (6)：

B05C 5/02 , B05C 11/08 , B05D 1/40 , B05D 3/00 , G03F 7/16 502 , H01L 21/027

FI (6)：

B05C 5/02 , B05C 11/08 , B05D 1/40 A , B05D 3/00 B , G03F 7/16 502 , H01L 21/30 564 C

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (4)

スピンコーティング方法およびその装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平4-042452 Applicant：オリジン電気株式会社
自動接着剤塗布装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平4-164340 Applicant：オリンパス光学工業株式会社
塗布ノズルの洗浄装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平4-117350 Applicant：三菱電機株式会社

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