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J-GLOBAL ID:200903071234266730
担持酸化ルテニウム触媒、担持ルテニウム触媒の製造方法及び塩素の製造方法
Inventor:
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Applicant, Patent owner:
Agent (1):
久保山 隆 (外2名)
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2000218863
Publication number (International publication number):2002079093
Application date: Jul. 19, 2000
Publication date: Mar. 19, 2002
Summary:
【要約】 (修正有)【課題】 担持酸化ルテニウム触媒、担持酸化ルテニウム触媒又は担持塩化ルテニウム触媒の製造方法及び塩化水素を酸素によって酸化して塩素を製造する方法。【解決手段】 (1)550°C以上の温度で焼成したルチル結晶形を含有する酸化チタンを担体として用いた担持酸化ルテニウム触媒。(2)担持酸化ルテニウム触媒であって、触媒0.1gを、220°Cで、60分間水素ガスを常圧下、50ml/minで流通させて還元した後、一酸化炭素パルス法による金属表面積測定方法で測定した一酸化炭素吸着量が、触媒に含まれている単位ルテニウム当たり87.5ml/g-Ru以上である担持酸化ルテニウム触媒。
Claim (excerpt):
次の(1)から(3)の中から選ばれる一の担持酸化ルテニウム触媒。(1)550°C以上の温度で焼成したルチル結晶形を含有する酸化チタンを担体として用いた担持酸化ルテニウム触媒。(2)担持酸化ルテニウム触媒であって、触媒0.1gを、220°Cで、60分間水素ガスを常圧下、50ml/minで流通させて還元した後、一酸化炭素パルス法による金属表面積測定方法で測定した一酸化炭素吸着量が、触媒に含まれている単位ルテニウム当たり87.5ml/g-Ru以上である担持酸化ルテニウム触媒。(3)下記の工程を含む調製方法により調製された担持酸化ルテニウム触媒。ルテニウム化合物担持工程:ルテニウム化合物を触媒担体に担持する工程焼成工程:ルテニウム化合物担持工程で得られたものを、200°C以上の温度で、酸化性ガス中、不活性ガス中又は還元性ガス中で焼成する工程ヒドラジン処理工程:焼成工程で得られたものをヒドラジンとアルカリの混合溶液で処理する工程酸化工程:ヒドラジン処理工程で得られたものを酸化する工程
IPC (5):
B01J 23/46 301
, B01J 21/06
, B01J 27/10
, B01J 32/00
, B01J 37/08
FI (5):
B01J 23/46 301 M
, B01J 21/06 M
, B01J 27/10 M
, B01J 32/00
, B01J 37/08
F-Term (25):
4G069AA01
, 4G069AA03
, 4G069AA08
, 4G069BA01B
, 4G069BA04A
, 4G069BA04B
, 4G069BB02A
, 4G069BB02B
, 4G069BB04A
, 4G069BB04B
, 4G069BB08A
, 4G069BB08B
, 4G069BC70A
, 4G069BC70B
, 4G069CB07
, 4G069DA06
, 4G069EA02Y
, 4G069EA06
, 4G069EC02X
, 4G069EC03X
, 4G069EC04X
, 4G069EC05X
, 4G069EC22X
, 4G069FB30
, 4G069FC07
Patent cited by the Patent: