電子サイクロトロン共鳴を利用した常温化学蒸着システム及びこれを利用した複合金属膜の製造方法

Inventor： , , , ,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：笹島富二雄 (外1名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2002119001
Publication number (International publication number)：2003041371
Application date： Apr. 22, 2002
Publication date： Feb. 13, 2003
Summary：

【要約】【課題】基板と蒸着される複合金属膜との結合力に優れる高品質の蒸着膜を形成し得る、ECRを利用した常温化学蒸着システム及びこれを利用した複合金属膜の製造方法を提供する。【解決手段】反応チャンバ10と、素材が装着される載置部15と、プラズマを供給するECRシステム1と、有機物質または有機金属化合物を供給する有機物供給システム3と、金属イオンを供給するスパッタリングシステム2と、金属イオン及びラジカルイオンを素材に誘導する誘導電圧を供給する誘導電圧供給システム4と、前記反応チャンバ内部の真空度を調節する真空システム5と、を包含してECRを利用した常温化学蒸着システムを構成する。

Claim (excerpt)：

反応チャンバと、前記反応チャンバ内に設けられて素材が載置される載置部と、前記反応チャンバにプラズマを供給する電子サイクロトロン共鳴システムと、前記反応チャンバに有機物質または有機金属化合物を供給する有機物供給システムと、前記反応チャンバに金属イオンを供給するスパッタリングシステムと、前記載置部に載置される素材に金属イオン及びラジカルイオンを誘導する誘導電圧を供給する誘導電圧供給システムと、前記反応チャンバの内部の真空度を調節する真空システムと、を包含して構成されることを特徴とする電子サイクロトロン共鳴を利用した常温化学蒸着システム。

IPC (4)：

C23C 16/511 , B01J 3/00 , B01J 19/08 , H01L 21/285

FI (4)：

C23C 16/511 , B01J 3/00 J , B01J 19/08 H , H01L 21/285 C

F-Term (34)：

4G075AA24 , 4G075AA30 , 4G075BC01 , 4G075BC02 , 4G075BC04 , 4G075BC06 , 4G075CA51 , 4G075CA62 , 4G075CA63 , 4G075DA02 , 4G075DA18 , 4G075EB01 , 4G075EB44 , 4K030AA09 , 4K030AA11 , 4K030AA16 , 4K030AA17 , 4K030BA01 , 4K030CA04 , 4K030CA07 , 4K030CA08 , 4K030FA03 , 4K030FA14 , 4K030HA02 , 4K030KA30 , 4K030KA49 , 4M104AA01 , 4M104AA10 , 4M104BB04 , 4M104DD37 , 4M104DD43 , 4M104DD44 , 4M104DD45 , 4M104HH08

Patent cited by the Patent：

Cited by applicant (8)

特開平1-264919
特開昭63-297569
スパッタリング装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平7-127697 Applicant：三容真空工業株式会社

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Cited by examiner (8)

特開平1-264919
特開昭63-297569
スパッタリング装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平7-127697 Applicant：三容真空工業株式会社

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