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J-GLOBAL ID:200903071287410387

水素分離膜の製造方法

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (4): 奥山 尚一 ,  有原 幸一 ,  松島 鉄男 ,  河村 英文
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2004372403
Publication number (International publication number):2006175379
Application date: Dec. 24, 2004
Publication date: Jul. 06, 2006
Summary:
【課題】 水素透過性および製造された水素の純度が高く、かつ少ないPd合金素材で製造することができる水素分離膜の製造方法を提供することを目的とする。【解決手段】 Pd合金を浮揚型コールドクルーシブル溶解法により溶解し、インゴットを得るステップと、該インゴットの介在物集積部を除去するステップと、介在物集積部が除去されたインゴットを鍛造し、圧延するステップとを含む水素分離膜の製造方法。【選択図】 なし
Claim (excerpt):
Pd合金を浮揚型コールドクルーシブル溶解法により溶解し、インゴットを得るステップと、 該インゴットの介在物集積部を除去するステップと、 該介在物集積部が除去されたインゴットを鍛造し、圧延するステップと を含む、水素分離膜の製造方法。
IPC (4):
B01D 71/02 ,  B01D 67/00 ,  C22B 9/22 ,  C22B 11/02
FI (4):
B01D71/02 500 ,  B01D67/00 ,  C22B9/22 ,  C22B11/02
F-Term (17):
4D006GA41 ,  4D006MA31 ,  4D006MB03 ,  4D006MC02X ,  4D006NA34 ,  4D006NA50 ,  4D006PA02 ,  4D006PB66 ,  4D006PC01 ,  4D006PC80 ,  4K001AA41 ,  4K001EA05 ,  4K001FA14 ,  4K001GA17 ,  5H027AA02 ,  5H027BA16 ,  5H027DD00
Patent cited by the Patent:
Cited by applicant (4)
  • 水素透過膜用合金の製造方法
    Gazette classification:公開公報   Application number:特願2001-201622   Applicant:石福金属興業株式会社, 東京瓦斯株式会社
  • 金属坦持膜
    Gazette classification:公表公報   Application number:特願2001-575494   Applicant:ウォルター・ジュダ・アソシエーツ,インコーポレイテッド
  • 特開昭62-121616号公報
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