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J-GLOBAL ID：200903071829486210

基板洗浄装置及び基板洗浄方法

Inventor： 廣瀬 圭蔵 ,  関口 賢治
Applicant, Patent owner： 東京エレクトロン株式会社
Agent (1)： 大森 純一
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2002311928
Publication number (International publication number)：2003203892
Application date： Oct. 25, 2002
Publication date： Jul. 18, 2003
Summary：

【要約】【課題】 親水性又は疎水性のいずれかの基板に関わらず、基板上へのパーティクルの付着を防止できる基板洗浄装置及び基板洗浄方法を提供すること。【解決手段】 2流体ノズル36から吐出された洗浄液がカップCPの内側で跳ね返り、ミスト状となってウエハWの中心側へ向けて飛散するが、リンスノズル35によりリンス液をウエハWに供給して水膜51を形成しているため、水膜51上にミストが付着してもウエハ面に直接ミストが付着するわけではないので、ミストに含まれるパーティクルがウエハW上に付着することを防止でき、ウエハWに対する悪影響を防止できる。

Claim (excerpt)：

基板を回転可能に保持する回転保持部と、回転する基板上を径方向に移動可能に設けられ、洗浄液を吐出する洗浄ノズルと、前記洗浄ノズルによる洗浄の際に、基板上に液体を供給し基板上に液膜を形成する液体供給ノズルとを具備することを特徴とする基板洗浄装置。

Patent cited by the Patent：

Cited by applicant (1)

• 洗浄用2流体ジェットノズル及び洗浄装置
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平8-321963   Applicant：三菱電機株式会社, 大陽東洋酸素株式会社

Cited by examiner (2)

• エッチング除去方法および装置と洗浄方法および装置
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平11-068898   Applicant：日本電気株式会社
• 洗浄装置及び洗浄方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平10-335990   Applicant：ソニー株式会社