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J-GLOBAL ID:200903071910415174
磁気ディスクの製造方法
Inventor:
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Applicant, Patent owner:
Agent (1):
杉浦 康昭
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1999181493
Publication number (International publication number):2001014662
Application date: Jun. 28, 1999
Publication date: Jan. 19, 2001
Summary:
【要約】 (修正有)【課題】磁性膜の結晶粒子サイズの分散を抑制し微細化して、ノイズの発生が小さい高性能な磁気記録媒体を提供し、結晶粒子サイズの分散を抑制して低ノイズ、低熱揺らぎ、低熱減磁でしかも高信頼性を有する磁気記録媒体を提供。【解決手段】ガラス基板表面にCoO,Cr2O3,FeO,又はNiOの内より選ばれる1種類の酸化物をSiO,Al2O3,TiO2、TaO2あるいは酸化亜鉛の内からの1種類の酸化物に溶解し、ハニカム構造を有しかつ規則的に配列した溶質物質の結晶粒子と、それを取り囲んで粒界に溶媒物質を析出させた構造の無機化合物の基板あるいは薄膜をECR法で形成後に、磁気記録媒体を作製した構造の磁気記録媒体を形成して実現できる。この無機化合物の基板あるいは薄膜では、CoO,Cr2O3,FeO,又はNiOの内より選ばれる1種類の酸化物が結晶粒子として析出し、SiO,Al2O3,TiO2,TaO2あるいは酸化亜鉛がその結晶粒界に存在する構造である。
Claim (excerpt):
少なくとも基板と、下地膜と、磁性膜と、保護膜とを有する磁気ディスクの製造方法において、少なくともマイクロ波によりソース源の励起を行い、かつ、ソース源とマイクロ波による励起により反応活性となるガスを含む雰囲気ガスを用い、ターゲットと雰囲気ガスとの反応をECR法により促進させる反応性のECRスパッタ法を用いて下地膜を成膜したことを特徴とする磁気ディスクの製造方法。
F-Term (6):
5D112AA03
, 5D112AA24
, 5D112BD03
, 5D112FA04
, 5D112FB05
, 5D112FB18
Patent cited by the Patent:
Cited by applicant (4)
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磁気記録媒体の製造方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平11-169382
Applicant:日立マクセル株式会社
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薄膜形成装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平9-121489
Applicant:株式会社島津製作所
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磁気記録媒体の構造及びそれを用いた磁気記録装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平9-148930
Applicant:株式会社日立製作所, 日立マクセル株式会社