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J-GLOBAL ID：200903072491809392

乾式プロセスガス

Inventor： 岩森 暁 ,  福田 伸 ,  野崎 正平 ,  中島 康甫
Applicant, Patent owner： 三井化学株式会社
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1997111345
Publication number (International publication number)：1998303181
Application date： Apr. 28, 1997
Publication date： Nov. 13, 1998
Summary：

【要約】【解決手段】 成分にアミン化合物のフッ化物を含む乾式プロセスガスと、該乾式プロセスガスを用いた乾式エッチング方法及び乾式クリーニング方法。【効果】 本発明によれば地球環境に優しく、かつ微細加工が可能な乾式エッチング方法と、効果的な乾式クリーニング方法を提供できる。

Claim (excerpt)：

成分にアミン化合物のフッ化物を含む乾式プロセス用ガス。

IPC (3)：

H01L 21/3065 ,  C23F 4/00 ,  H01L 21/304 341

FI (3)：

H01L 21/302 F ,  C23F 4/00 E ,  H01L 21/304 341 D

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (2)

• クリーニングガス、エッチングガス
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平7-096985   Applicant：セントラル硝子株式会社
• 処理装置及び該処理装置に用いられるカバー体の洗浄方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平6-142409   Applicant：東京エレクトロン株式会社