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J-GLOBAL ID:200903072604041631

メソポーラス金属の製造方法

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (3): 牛木 護 ,  清水 栄松 ,  清水 栄松
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2003054382
Publication number (International publication number):2004263242
Application date: Feb. 28, 2003
Publication date: Sep. 24, 2004
Summary:
【課題】メソ(ポーラス)構造の秩序性・規則性が高く、高比表面積を持つ多孔質材料としてのメソポーラス金属を製造する方法を提供するものである。【解決手段】リオトロピック液晶相中に、金属イオン源およびアミンボラン系還元剤を加え、前記リオトロピック液晶の周りに金属を析出させ、前記リオトロピック液晶を除去する。【選択図】 なし
Claim (excerpt):
リオトロピック液晶相中に、金属イオン源およびアミンボラン系還元剤を加え、前記リオトロピック液晶の周りに金属を析出させる工程と、前記リオトロピック液晶を除去する工程とを含むことを特徴とするメソポーラス金属の製造方法。
IPC (5):
C23C18/31 ,  C23C18/16 ,  C23C18/52 ,  C25D17/10 ,  H01M4/38
FI (5):
C23C18/31 A ,  C23C18/16 A ,  C23C18/52 Z ,  C25D17/10 101Z ,  H01M4/38 Z
F-Term (19):
4K022AA13 ,  4K022AA35 ,  4K022AA41 ,  4K022AA43 ,  4K022BA01 ,  4K022BA03 ,  4K022BA06 ,  4K022BA08 ,  4K022BA14 ,  4K022BA18 ,  4K022BA38 ,  4K022DA01 ,  4K022DB03 ,  4K022DB04 ,  4K022EA04 ,  5H050AA08 ,  5H050BA08 ,  5H050FA13 ,  5H050GA11
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (4)
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