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J-GLOBAL ID：200903072681044970

静電チャック装置

Inventor： 鎌田 範幸 ,  宮尾 裕文
Applicant, Patent owner： 日本電子株式会社
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1998267582
Publication number (International publication number)：2000100917
Application date： Sep. 22, 1998
Publication date： Apr. 07, 2000
Summary：

【要約】【課題】 静電チャックプレートにウェハ等の平板試料を装着した際に、プレートに付着しているゴミ等の微粒子が、試料に移るのを防ぐ。【解決手段】 静電チャックプレートに、複数の貫通孔と、該貫通孔を貫通する複数のポストと設け、該ポストは前記静電チャックプレートの表面より僅かに突出するようにすることによって、ウェハ等の試料が静電チャックプレートと直接触れることのないようにした。

Claim (excerpt)：

ウェハ等の平板試料を装着する試料ステージ用の静電チャック装置において、複数の貫通孔を有する静電チャックプレートと、前記貫通孔を貫通する複数のポストとを前記試料ステージに取り付け、前記ポストは前記静電チャックプレートの表面より僅かに突出するようにすることによって、静電チャックプレートと前記平板試料との間に空隙を生じせしめ、前記平板試料の装着面が前記静電チャックプレートの表面と直接触れることのないように成したことを特徴とする静電チャック装置。

IPC (3)：

H01L 21/68 ,  H01J 37/20 ,  H02N 13/00

FI (3)：

H01L 21/68 R ,  H01J 37/20 A ,  H02N 13/00 D

F-Term (7)：

5C001AA01 ,  5C001AA02 ,  5C001CC04 ,  5C001DD01 ,  5F031FF03 ,  5F031KK09 ,  5F031LL07

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (3)

• 静電吸着体と静電吸着装置
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平9-037559   Applicant：株式会社日立製作所
• 処理装置
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平10-173946   Applicant：東京エレクトロン株式会社
• 特開昭62-286249