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J-GLOBAL ID:200903021777182490
静電吸着体と静電吸着装置
Inventor:
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Applicant, Patent owner:
Agent (1):
鵜沼 辰之
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1997037559
Publication number (International publication number):1998233434
Application date: Feb. 21, 1997
Publication date: Sep. 02, 1998
Summary:
【要約】【課題】 静電吸着装置にて試料吸着を行う際の、試料裏面への異物付着量を低減する。【解決手段】 静電吸着体100の吸着部3の表面(吸着面)を加工して被吸着物1との接触部4及び非接触部5となる凹凸を形成し、被吸着物1と静電吸着体の吸着面の接触面積を吸着部面積の10%未満とすると同時に、被吸着物吸着時の被吸着物1と前記非接触部5の間隔を0.35〜9.0μmとした。
Claim (excerpt):
電極板に誘電体を積層してなり、電極板と被吸着物間に電位差を生じさせることによって前記誘電体の吸着面に被吸着物を吸着させる静電吸着体において、誘電体の吸着面表面に、被吸着物吸着時に被吸着物との接触部となる凸部および非接触部となる凹部を形成し、前記接触部の被吸着物との接触面積を吸着面面積の10%未満としたことを特徴とする静電吸着体。
IPC (2):
FI (2):
H01L 21/68 R
, B25J 15/06 S
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (5)
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セラミツク製静電チヤツク
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平3-157207
Applicant:京セラ株式会社
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特開平4-304941
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高温ポリイミド静電チャック
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平8-016164
Applicant:アプライドマテリアルズインコーポレイテッド
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ウエハ移載用治具
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平5-005090
Applicant:東芝セラミックス株式会社, 東京エレクトロン株式会社
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ウエハ搬送装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平3-158063
Applicant:株式会社日立製作所
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