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J-GLOBAL ID：200903072768195532

ケイ素系高分子化合物及びその製造方法

Inventor： 岡田 和廣 ,  藤坂 朋弘 ,  山口 文治
Applicant, Patent owner： 積水化学工業株式会社
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1994185762
Publication number (International publication number)：1996048784
Application date： Aug. 08, 1994
Publication date： Feb. 20, 1996
Summary：

【要約】【目的】耐熱性に優れたケイ素系高分子化合物及びその製造方法を提供する。【構成】一般式(1)で表される単位及び一般式(2)で表される単位からなり、重量平均分子量が500以上であるケイ素系高分子化合物。

Claim (excerpt)：

一般式(1)で表される単位及び一般式(2)で表される単位からなり、重量平均分子量が500以上であることを特徴とするケイ素系高分子化合物。【化1】(式中、二つのエチニル基の立体構造はオルト、メタ、パラのいずれでもよく、R1 〜R4 は、エチニル基が結合している炭素以外の炭素に置換している水素原子、炭素数1〜20のアルキル基又はアリール基を示し、それぞれ同一であっても異なっていてもよい)【化2】(式中、R5 は水素原子、炭素数1〜20のアルキル基又はアリール基を示す)

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (3)

• 含ケイ素有機化合物およびその製造方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平4-206923   Applicant：日本石油株式会社
• 有機ケイ素高分子およびその製造方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平5-043596   Applicant：三井東圧化学株式会社
• 固体塩基触媒を用いた有機ケイ素高分子の製造方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平5-236445   Applicant：三井東圧化学株式会社