システムの状態および性能を監視し、診断するシステムおよび方法

Inventor： , , , , , , , ,
Applicant, Patent owner：
Agent (7)：稲葉良幸 , 大賀眞司 , 大貫敏史 , 浅村皓 , 浅村肇 , 森徹 , 吉田裕
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2006179029
Publication number (International publication number)：2007019497
Application date： Jun. 29, 2006
Publication date： Jan. 25, 2007
Summary：

【課題】最終製品で欠陥が検出される前に、リソグレフィ装置のシステム低下についてリアルタイムでツールの性能を監視かつ/または診断するシステムおよび方法を提供する。【解決手段】キー性能指標および診断データセットに基づいて監視される要素を含む階層データ構造であって、システム階層200はシステム動作中に実行されるプロセスシーケンス202を有し、複数のプロセスステップ210-218からなる。階層の上位レベルは主要なシステム機能を表し、副機能は主要なシステム機能導出し下位レベルに配置する。階層キー性能指標001KPI-039KPIはシステム機能を能動的に監視し、診断データセット280-286はシステム機能を受動的に監視し、データ分析器がシステム偏差の根本原因を識別できるようにする。【選択図】図2

Claim (excerpt)：

リソグラフィ機械の性能を監視するシステムであって、要素を含む階層データ構造と、前記要素と関連して、対応する要素の性能の尺度を提供する複数の性能指標と、 1つ以上の感知デバイスから得られる生データを含む診断データセットで、対応する要素と関連する診断データセットと、診断データセットから導出され、所定の基準値を含むキー性能指標で、前記感知デバイスからの測定値が前記所定の基準値から偏差している場合に、リソグラフィ機械の性能の変動を信号で通信するキー性能指標と、を備えているシステム。

IPC (4)：

H01L 21/027 , H01L 21/02 , H01L 21/66 , G03F 7/20

FI (4)：

H01L21/30 502G , H01L21/02 Z , H01L21/66 Z , G03F7/20 521

F-Term (12)：

4M106AA01 , 4M106BA20 , 4M106CA50 , 4M106DB04 , 4M106DJ20 , 4M106DJ23 , 4M106DJ27 , 4M106DJ38 , 5F046AA28 , 5F046DA04 , 5F046DA30 , 5F046DD06

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (6)

半導体デバイスの製造方法並びに製造ラインの診断方法、そのシステムおよびそのプログラム
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2002-137278 Applicant：株式会社日立製作所
露光工程の診断方法および露光工程の制御方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2000-043183 Applicant：株式会社日立製作所
製品設計および歩留りのフィードバックシステムに基づいた総括的な統合リソグラフィプロセス制御システム
Gazette classification：公表公報 Application number：特願2004-541539 Applicant：アドバンスト・マイクロ・ディバイシズ・インコーポレイテッド

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