ArFエキシマレーザーレジスト用ポリマー溶液の製造方法

Inventor： , ,
Applicant, Patent owner：
Agent (2)：後藤幸久 , 壬生優子
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2005364295
Publication number (International publication number)：2006161052
Application date： Dec. 19, 2005
Publication date： Jun. 22, 2006
Summary：

【課題】不純物含有量の極めて少ないフォトレジスト用高分子化合物を含有するArFエキシマレーザーレジスト用ポリマー溶液の製造方法を提供する。【解決手段】本発明のArFエキシマレーザーレジスト用ポリマー溶液の製造方法は、ラクトン骨格を含む単量体(a)及びヒドロキシル基を有する脂環式骨格を含む単量体(c)から選択された少なくとも1種の単量体に対応する繰り返し単位と、酸により脱離してアルカリ可溶性となる基を含む単量体(b)に対応する繰り返し単位とを有する高分子化合物を含むArFエキシマレーザーレジスト用ポリマー溶液を製造する方法であって、滴下重合により生成したポリマーを沈殿精製に付し、固液分離して得られた湿ポリマーを有機溶媒に再溶解し、得られたポリマー溶液を濃縮することにより、ポリマー溶液中に含まれている低沸点溶媒を留去してフォトレジスト用ポリマー溶液を調製することを特徴とする。【選択図】なし

Claim (excerpt)：

ラクトン骨格を含む単量体(a)及びヒドロキシル基を有する脂環式骨格を含む単量体(c)から選択された少なくとも1種の単量体に対応する繰り返し単位と、酸により脱離してアルカリ可溶性となる基を含む単量体(b)に対応する繰り返し単位とを有する高分子化合物を含むArFエキシマレーザーレジスト用ポリマー溶液を製造する方法であって、滴下重合により生成したポリマーを沈殿精製に付し、固液分離して得られた湿ポリマーを有機溶媒に再溶解し、得られたポリマー溶液を濃縮することにより、ポリマー溶液中に含まれている低沸点溶媒を留去してフォトレジスト用ポリマー溶液を調製することを特徴とするArFエキシマレーザーレジスト用ポリマー溶液の製造方法。

IPC (2)：

C08F 220/28 , G03F 7/039

FI (2)：

C08F220/28 , G03F7/039 601

F-Term (30)：

2H025AA00 , 2H025AB16 , 2H025AC04 , 2H025AC08 , 2H025AD03 , 2H025BE00 , 2H025BG00 , 2H025BJ10 , 2H025CB14 , 2H025CB41 , 2H025CB45 , 4J100AL08P , 4J100AL08Q , 4J100AL08R , 4J100BA03R , 4J100BA11P , 4J100BA11R , 4J100BA16H , 4J100BA16R , 4J100BC09Q , 4J100BC53P , 4J100BD10Q , 4J100CA04 , 4J100CA05 , 4J100CA31 , 4J100HA08 , 4J100HD19 , 4J100HE08 , 4J100HE12 , 4J100JA38

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (4)

化学増幅型ポジ型レジスト組成物
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平11-238542 Applicant：住友化学工業株式会社
遠紫外線露光用ポジ型フォトレジスト組成物
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平11-146775 Applicant：富士写真フイルム株式会社
特開平2-154259

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