化学増幅型ポジ型レジスト組成物

Inventor： , ,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：久保山隆 (外2名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1999238542
Publication number (International publication number)：2000137327
Application date： Aug. 25, 1999
Publication date： May. 16, 2000
Summary：

【要約】【課題】感度や解像度などの各種レジスト性能が良好であるとともに、基板への接着性に優れる化学増幅型のポジ型レジスト組成物を提供する。【解決手段】樹脂成分と酸発生剤を含有する化学増幅型ポジ型レジスト組成物であって、その樹脂成分が、(メタ)アクリル酸2-アルキル-2-アダマンチルの重合単位を有し、さらに(メタ)アクリル酸3-ヒドロキシ-1-アダマンチルの重合単位(II)及び/又は(メタ)アクリロニトリルの重合単位(III) を有する組成物、任意にさらに、α-メタクリロイロキシ-γ-ブチロラクトンの重合単位(IV)及び/又は無水マレイン酸の重合単位(V)を有する組成物が提供され、また別に、当該樹脂成分が、メタクリル酸2-エチル-2-アダマンチルの重合単位を有し、さらに(II)〜(V)の一又は複数を有する組成物も提供される。

Claim (excerpt)：

下式(I)(式中、R1 は水素又はメチルを表し、R2 はアルキルを表す)で示される重合単位を有し、さらに(メタ)アクリル酸3-ヒドロキシ-1-アダマンチル及び(メタ)アクリロニトリルから選ばれるモノマーの重合単位を有する樹脂、並びに酸発生剤を含有することを特徴とする化学増幅型ポジ型レジスト組成物。

IPC (2)：

G03F 7/039 601 , H01L 21/027

FI (2)：

G03F 7/039 601 , H01L 21/30 502 R

Patent cited by the Patent：

Cited by applicant (7)

レジスト材料及びレジストパターンの形成方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平8-320105 Applicant：富士通株式会社
レジスト材料及びレジストパターンの形成方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平8-050264 Applicant：富士通株式会社
化学増幅型ポジ型レジスト組成物
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平8-285195 Applicant：住友化学工業株式会社

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