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J-GLOBAL ID：200903072981773736

酸化還元電位水製造装置

Inventor：
佐藤 之信

About 佐藤 之信

, 
有田 法夫

About 有田 法夫


Applicant, Patent owner：
佐藤工業株式会社

About 佐藤工業株式会社


Agent (1)： 松浦 弘
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2005014651
Publication number (International publication number)：2006198557
Application date： Jan. 21, 2005
Publication date： Aug. 03, 2006
Summary：
【課題】 水の酸化還元電位の絶対値を従来よりも高い値とすることが可能な酸化還元電位水製造装置の提供を目的とする。【解決手段】本実施形態の酸化還元電位水製造装置100によれば、ガスが混合された水がミキサー10を通過する過程で、その水にかかる流体圧力の強弱が繰り返され、水に対するガスの溶存量が向上し、酸化還元電位(ORP)の絶対値を従来より高くすることができる。【選択図】 図1
Claim (excerpt)：
水と共に、水素、酸素、オゾン、アンモニア又は二酸化炭素の何れかのガスを吸引し、そのガスと前記水とを混合して排出する気液混合ポンプと、前記気液混合ポンプから排出された水のガス溶存量を高めるためのミキサーとを備え、 前記ミキサーは、前記気液混合ポンプの排出口に接続された管路と、 前記管路の軸方向に沿って間隔をあけて設けられ、前記管路内を複数の領域に区画すると共に前記水の通過を許容し、前記管路内で流体圧力の強弱が繰り返されるようにするための複数のミキシング壁とを備えたことを特徴とする酸化還元電位水製造装置。
IPC (6)：
C02F 1/68 ,  B01D 19/00 ,  B01F 1/00 ,  C02F 1/20 ,  C02F 1/46 ,  C02F 1/48
FI (11)：
C02F1/68 510B ,  C02F1/68 520B ,  C02F1/68 530A ,  C02F1/68 540E ,  C02F1/68 540F ,  C02F1/68 540Z ,  B01D19/00 101 ,  B01F1/00 A ,  C02F1/20 A ,  C02F1/46 A ,  C02F1/48 A
F-Term (24)：
4D011AA16 ,  4D011AA18 ,  4D011AD03 ,  4D037AA02 ,  4D037BA23 ,  4D037BB07 ,  4D037CA04 ,  4D037CA05 ,  4D037CA13 ,  4D061DA03 ,  4D061DB06 ,  4D061DB07 ,  4D061EA02 ,  4D061EA18 ,  4D061EC05 ,  4D061EC11 ,  4D061FA03 ,  4D061FA12 ,  4G035AA01 ,  4G035AC01 ,  4G035AC02 ,  4G035AC33 ,  4G035AC55 ,  4G035AE02
Patent cited by the Patent：
Cited by applicant (1)
  • 活性水素含有水の製法
    Gazette classification：公開公報   Application number：特願2001-177475   Applicant：株式会社サンワーク
Cited by examiner (10)
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