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J-GLOBAL ID：200903073574064956

ポリエチレン微多孔膜

Inventor： 近藤 孝彦 ,  安達 理行 ,  池本 貴志
Applicant, Patent owner： 旭化成株式会社
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2000281111
Publication number (International publication number)：2002088188
Application date： Sep. 18, 2000
Publication date： Mar. 27, 2002
Summary：

【要約】【解決手段】 気孔率40〜60%、突き刺し強度300g〜1500g(厚さ25μm換算)、平均孔径0.1〜0.3μm、孔径分布指数が1.40〜2.2以上、電気抵抗が0.4〜1.0Ωcm2であることを特徴とするポリエチレン微多孔膜。【効果】 本発明のポリエチレン微多孔膜は、良好な透過性能と高い強度を併せ持ち、特にリチウムイオン二次電池用セパレータに好適である。

Claim (excerpt)：

気孔率40〜60%、突き刺し強度300〜1500g(厚さ25μm換算)、平均孔径0.1〜0.3μm、孔径分布指数が1.40〜2.2、電気抵抗が0.4〜1.0Ωcm2であることを特徴とするポリエチレン微多孔膜。

IPC (4)：

C08J 9/26 CES ,  H01M 2/16 ,  H01M 10/40 ,  C08L 23:06

FI (4)：

C08J 9/26 CES ,  H01M 2/16 P ,  H01M 10/40 Z ,  C08L 23:06

F-Term (40)：

4F074AA17 ,  4F074AA18 ,  4F074AA19 ,  4F074AA20 ,  4F074AA21 ,  4F074CB03 ,  4F074CB13 ,  4F074CB31 ,  4F074CC22X ,  4F074CC24X ,  4F074CC26X ,  4F074CC29Y ,  4F074CC45 ,  4F074DA02 ,  4F074DA03 ,  4F074DA08 ,  4F074DA24 ,  4F074DA49 ,  5H021CC08 ,  5H021EE04 ,  5H021HH00 ,  5H021HH02 ,  5H021HH03 ,  5H029AJ06 ,  5H029AJ11 ,  5H029AJ12 ,  5H029AJ14 ,  5H029AK03 ,  5H029AL06 ,  5H029AM03 ,  5H029AM04 ,  5H029AM05 ,  5H029AM07 ,  5H029DJ04 ,  5H029DJ14 ,  5H029EJ12 ,  5H029HJ00 ,  5H029HJ06 ,  5H029HJ09 ,  5H029HJ20

Patent cited by the Patent：

Cited by applicant (3)

• ポリエチレン微多孔性隔膜
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平5-006372   Applicant：旭化成工業株式会社
• 高分子量ポリオレフィン多孔フィルムおよびその製造 方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平9-329731   Applicant：三井化学株式会社
• 微多孔膜及びその製造方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平8-291251   Applicant：旭化成工業株式会社

Cited by examiner (2)

• ポリエチレン微多孔性隔膜
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平5-006372   Applicant：旭化成工業株式会社
• 高分子量ポリオレフィン多孔フィルムおよびその製造 方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平9-329731   Applicant：三井化学株式会社