Pat
J-GLOBAL ID:200903073611300436
高粘度毛髪用洗浄剤組成物
Inventor:
,
Applicant, Patent owner:
Agent (3):
三枝 英二
, 掛樋 悠路
, 斎藤 健治
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2004209659
Publication number (International publication number):2006028095
Application date: Jul. 16, 2004
Publication date: Feb. 02, 2006
Summary:
【課題】 濃厚な泡を形成し、泡立ちがよく、かつ温度による粘度変化の少ない高粘度毛髪用洗浄剤組成物を提供すること。 【解決手段】 重量平均分子量が10万以上であり、かつ窒素分(重量%、固形分換算)が0.5〜3.0%のカチオン化ガラクトマンナンを1.2〜5.0重量%配合した高粘度毛髪用洗浄剤組成物。
Claim (excerpt):
重量平均分子量が10万以上であり、かつ窒素分(重量%、固形分換算)が0.5〜3.0%のカチオン化ガラクトマンナンを1.2〜5.0重量%配合した高粘度毛髪用洗浄剤組成物。
IPC (2):
FI (1):
F-Term (22):
4C083AB052
, 4C083AB332
, 4C083AC062
, 4C083AC122
, 4C083AC182
, 4C083AC302
, 4C083AC402
, 4C083AC482
, 4C083AC642
, 4C083AC712
, 4C083AC782
, 4C083AC792
, 4C083AD132
, 4C083AD211
, 4C083AD351
, 4C083AD352
, 4C083AD392
, 4C083AD532
, 4C083CC38
, 4C083EE01
, 4C083EE06
, 4C083EE07
Patent cited by the Patent:
Cited by applicant (2)
-
頭髪用化粧料に優れたコンディショニング特性を与えるカチオン性ポリマー
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平10-291316
Applicant:東邦化学工業株式会社
-
化粧料用組成物
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2002-176394
Applicant:東邦化学工業株式会社
Cited by examiner (10)
-
毛髪用洗浄剤組成物
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2004-088539
Applicant:株式会社カネボウ化粧品
-
シャンプー組成物
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平10-128287
Applicant:株式会社コーセー
-
シャンプー組成物
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平10-276543
Applicant:株式会社コーセー
-
皮膚洗浄剤組成物
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2003-396688
Applicant:株式会社カネボウ化粧品
-
シャンプー用組成物
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平6-026654
Applicant:東洋ビューティ株式会社
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化粧料用複合体及びこれを配合した化粧料
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平9-092923
Applicant:株式会社資生堂
-
化粧料用複合体及びこれを配合した化粧料
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平9-098444
Applicant:株式会社資生堂
-
洗浄剤組成物
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平5-352007
Applicant:サンスター株式会社
-
洗浄剤組成物
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2004-088540
Applicant:株式会社カネボウ化粧品
-
洗浄料組成物
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2003-123552
Applicant:株式会社資生堂
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