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J-GLOBAL ID：200903073800472175

光導波路素子

Inventor： 村田 則夫 ,  都丸 暁 ,  今村 三郎 ,  鈴木 浩
Applicant, Patent owner： エヌ・ティ・ティ・アドバンステクノロジ株式会社 ,  東亞合成株式会社
Agent (1)： 谷 義一 (外2名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2001206867
Publication number (International publication number)：2003021735
Application date： Jul. 06, 2001
Publication date： Jan. 24, 2003
Summary：

【要約】【課題】 高分子材料を用いて低価格化と高性能化を同時に満足する光導波路素子を実現すること。【解決手段】 下記一般式(I)で表されるシルセスキオキサン反応性オリゴマーと、熱あるいは光で重合を開始させることができる重合開始剤とから構成される混合物を硬化させて得られる高分子膜を、コア及びクラッド部のいずれかあるいは両方に用いた光導波路素子。【化1】(R0SiO3/2)n (I)(但し、R0はオキセタン環を含む置換基であり、nは2〜1000の整数である)

Claim (excerpt)：

下記一般式(I)で表されるシルセスキオキサン反応性オリゴマーと、熱あるいは光で重合を開始させることができる重合開始剤とから構成される混合物を硬化させて得られる高分子膜を、コア及びクラッド部のいずれかあるいは両方に用いることを特徴とする光導波路素子。【化1】(R0SiO3/2)n (I)(但し、R0はオキセタン環を含む置換基であり、nは2〜1000の整数である)

IPC (2)：

G02B 6/12 ,  C08G 65/22

FI (2)：

C08G 65/22 ,  G02B 6/12 N

F-Term (12)：

2H047KA03 ,  2H047PA02 ,  2H047PA15 ,  2H047PA24 ,  2H047QA05 ,  2H047TA43 ,  2H047TA44 ,  4J005AA07 ,  4J005AA09 ,  4J005BA00 ,  4J005BB01 ,  4J005BB02

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (3)

• 光導波路用材料並びに光導波路およびその製造方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平11-169842   Applicant：ソニー株式会社, ソニーケミカル株式会社
• 光導波路形成用組成物、光導波路の形成方法、および光導波路
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平11-255286   Applicant：ジェイエスアール株式会社
• 光導波路の製造方法および光導波路
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平10-238406   Applicant：ジェイエスアール株式会社