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J-GLOBAL ID:200903073970965206

高出力ArFエキシマレーザー用合成石英ガラス部材およびその製造方法

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1): 鈴江 武彦 (外6名)
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1999368360
Publication number (International publication number):2001180963
Application date: Dec. 24, 1999
Publication date: Jul. 03, 2001
Summary:
【要約】【課題】この発明は、VAD法で製造された合成石英ガラスが高純度であることと、OH基濃度およびH2 濃度が低いけれども均質であることに着目して、これに別途OH基およびH2 を添加して高純度でしかもOH基およびH2 濃度が均一でしかも高い合成石英とし、これによって高出力ArFエキシマレーザーに耐えるVAD法による合成石英ガラスを得ようとするものである。【解決手段】VAD法で製造された高純度合成石英ガラスであって、合成石英ガラス中のOH基濃度が500〜1500ppm、H2 濃度が1×1017〜1019molecule/cm3 である高出力ArFエキシマレーザー用合成石英ガラス。
Claim (excerpt):
VAD法で製造された高純度合成石英ガラスであって、合成石英ガラス中のOH基濃度が500〜1500ppm、H2 濃度が1×1017〜1019molecule/cm3 である高出力ArFエキシマレーザー用合成石英ガラス。
IPC (4):
C03C 3/06 ,  C03B 8/04 ,  C03B 20/00 ,  H01S 3/223
FI (5):
C03C 3/06 ,  C03B 8/04 P ,  C03B 8/04 L ,  C03B 20/00 F ,  H01S 3/223 Z
Patent cited by the Patent:
Cited by applicant (4)
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Cited by examiner (4)
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