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J-GLOBAL ID：200903074016781613

窒素含有排水の生物学的硝化方法およびその装置

Inventor： 冨田 実 ,  川端 雅博
Applicant, Patent owner： オルガノ株式会社
Agent (1)： 吉田 研二 (外2名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1997007422
Publication number (International publication number)：1998202293
Application date： Jan. 20, 1997
Publication date： Aug. 04, 1998
Summary：

【要約】【課題】 電子部品製造におけるウェット処理プロセスから排出される窒素含有排水の硝化処理を効率的に行う。【解決手段】 原水槽1に流入された窒素含有排水について、pH中和槽2、還元槽3で、中和還元処理した後、凝集分離槽4で、凝集処理する。この凝集処理によって、排水中に含まれている硝化阻害物質が除去される。そして、この凝集処理によって硝化阻害物質を除去した処理水を硝化槽5に導入し、ここで硝化処理する。

Claim (excerpt)：

電子部品製造におけるウェット処理プロセスから排出される窒素含有排水の生物学的硝化方法であって、排水に凝集剤を添加混合しその後固形物を分離する凝集分離処理を行い、排水中に含まれる硝化阻害物質を除去した後、生物的な硝化処理を行うことを特徴とする窒素含有排水の生物学的硝化方法。

IPC (4)：

C02F 3/34 101 ,  C02F 3/34 ,  C02F 1/52 ,  C02F 3/02

FI (4)：

C02F 3/34 101 A ,  C02F 3/34 101 B ,  C02F 1/52 K ,  C02F 3/02 Z

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (2)

• 過酸化水素含有排水の処理方法及びその装置
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平4-135832   Applicant：信越半導体株式会社
• 半導体ウエーハの薬液処理方法及びその薬液処理装置
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平6-094798   Applicant：株式会社東芝, 東芝マイクロエレクトロニクス株式会社