光断層イメージング装置

Inventor： , , , , , , , , , , , , ,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：伊藤進
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1997232999
Publication number (International publication number)：1999072431
Application date： Aug. 28, 1997
Publication date： Mar. 16, 1999
Summary：

【要約】【課題】体腔内に挿入するプローブの細径化を図ると共に、高分解能の光断層像を得る。【解決手段】スキャニング装置31を構成するシリコンスペーサ33には、光ファイバ12aの先端面、GRINレンズ35、第1及び第2のアルミ蒸着ミラー36a、36bが配置されており、光ファイバ12aの先端面からの低干渉性光がGRINレンズ35を介して第1のアルミ蒸着ミラー36aで反射され、シリコン基板32に設けられている第1のスキャニングミラー37aで反射される。第1のスキャニングミラー37aで反射された低干渉性光は、第2のアルミ蒸着ミラー36bで反射された後、シリコン基板32に設けられている第2のスキャニングミラー37bで反射されて、光ウインドウ板34に設けられた窓部38を介して患部に照射される。

Claim (excerpt)：

被検体内に挿通可能な細長な挿入部と、低干渉光を発生する光源と、前記挿入部に挿通され、前記挿入部の先端側の端面から前記被検体に前記低干渉光を出射すると共に、前記被検体より反射された反射光を検出するための1つのシングルモードファイバからなる導光手段と、前記シングルモードファイバより出射した前記低干渉光を前記被検体に対し走査するため、前記挿入部の先端側に配置されたシリコン基板上に形成された少なくとも1つ以上の光走査手段と、前記シングルモードファイバより出射した前記低干渉光を前記被検体に集光し、また、前記被検体からの反射光を検出するため、前記挿入部の先端側に配置された少なくとも1つ以上のレンズと、前記シングルモードファイバで検出した前記被検体からの前記反射光と前記光源より生成した基準光とを干渉させる干渉手段と、前記干渉手段による干渉成分を電気信号に変換して検出する干渉光検出手段と、前記基準光側の光路長を変化させる光路長変化手段と、前記電気信号に対する信号処理を行い、少なくとも前記被検体の深部方向の断層像を構築する信号処理手段とを備えたことを特徴とする光断層イメージング装置。

IPC (5)：

G01N 21/17 , A61B 5/00 , G01B 9/02 , G01B 11/00 , G01B 17/00

FI (5)：

G01N 21/17 A , A61B 5/00 L , G01B 9/02 , G01B 11/00 G , G01B 17/00 Z

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (4)

光断層イメージング装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平4-319850 Applicant：オリンパス光学工業株式会社
内視鏡用撮像装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平6-094747 Applicant：旭光学工業株式会社
立体視内視鏡
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平7-051154 Applicant：オリンパス光学工業株式会社

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