オゾン水生成装置

Inventor：
Applicant, Patent owner：
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1998374897
Publication number (International publication number)：2000153286
Application date： Nov. 20, 1998
Publication date： Jun. 06, 2000
Summary：

【要約】【課題】水処理効率の高いヒドロキシルイオンを有するオゾン水を提供すると共に、小型化したオゾン水生成装置の提供を目的とする。【解決手段】本発明のオゾン水生成装置は、オゾンガス及び処理水の分解触媒として、トルマリン鉱石と焼結セラミックを主体としたものを用いる構成を有する。オゾンガスをエジェクターを介して、処理水中に散気し、気泡含有状態になった状態で触媒を通過した時点で、触媒の活性作用が作用し水中にヒドルキシルイオンが発生する。同時に処理水がクラスター分解されたことで気泡化したオゾンガスとの溶解特性が向上し高濃度のオゾン水が生成される。その後攪拌部にて圧力を与えることにより溶解度を高め、高濃度オゾン水の安定供給が実現する。

Claim (excerpt)：

供給水の分子分解及びマイナスイオン発生を促進するトルマリン又はセラミックを主体とした触媒を給水系に有し、オゾンガスを混入・攪拌し、高濃度、高酸化力を有するオゾン水を供給するオゾン水生成装置。

IPC (2)：

C02F 1/78 , B01F 1/00

FI (2)：

C02F 1/78 , B01F 1/00 A

F-Term (13)：

4D050AA01 , 4D050AA20 , 4D050AB03 , 4D050AB04 , 4D050AB06 , 4D050AB11 , 4D050BB02 , 4D050BC04 , 4D050BC10 , 4D050BD03 , 4D050BD04 , 4G035AA01 , 4G035AE13

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (5)

活性水製造装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平6-052269 Applicant：東芝機器株式会社
特開昭57-012822
特開平4-243597

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