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J-GLOBAL ID：200903074546956457

ポジ型化学増幅型レジスト組成物

Inventor：
難波 克彦

About 難波 克彦

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中西 潤次

About 中西 潤次

, 
上谷 保則

About 上谷 保則


Applicant, Patent owner：
住友化学工業株式会社

About 住友化学工業株式会社


Agent (3)： 久保山 隆 ,  中山 亨 ,  榎本 雅之
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2003085686
Publication number (International publication number)：2004004669
Application date： Mar. 26, 2003
Publication date： Jan. 08, 2004
Summary：
【課題】感度、残膜率を高く維持しつつ、解像度を向上できるポジ型化学増幅型レジスト組成物を提供する。【解決手段】〔1〕架橋剤、酸発生剤、並びにそれ自体はアルカリ水溶液に不溶又は難溶であるが、酸の作用により解裂しうる保護基を有し、該保護基が解裂した後はアルカリ水溶液に可溶性になる樹脂を含有するポジ型化学増幅型レジスト組成物。〔2〕架橋剤が式(I)で表される化合物またはその縮合物である〔1〕に記載の組成物。(式中、R1〜R4は、互いに同一でも異なっていてもよく、水素原子、炭素数1〜6個のアルキル基、炭素数1〜6個のアミノアルキル基、炭素数1〜6個のヒドロキシアルキル基、6〜20個の置換もしくは非置換のアリール基、または炭素数2〜6のアルコシキアルキル基を表す。ただし、R1〜R4のうち少なくとも1つは、炭素数2〜6のアルコシキアルキル基である。R1、R2のいずれかと、R3、R3のいずれかとが、互いに結合して環を形成していてもよい。)【選択図】 なし
Claim (excerpt)：
架橋剤、酸発生剤、並びにそれ自体はアルカリ水溶液に不溶又は難溶であるが、酸の作用により解裂しうる保護基を有し、該保護基が解裂した後はアルカリ水溶液に可溶性になる樹脂を含有することを特徴とするポジ型化学増幅型レジスト組成物。
IPC (3)：
G03F7/039 ,  G03F7/004 ,  H01L21/027
FI (3)：
G03F7/039 601 ,  G03F7/004 501 ,  H01L21/30 502R
F-Term (11)：
2H025AA01 ,  2H025AA02 ,  2H025AB16 ,  2H025AC08 ,  2H025AD03 ,  2H025BE00 ,  2H025BE10 ,  2H025BG00 ,  2H025CB28 ,  2H025CC17 ,  2H025CC20
Patent cited by the Patent：
Cited by examiner (2)

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