化学増幅ポジ型レジスト

Inventor：
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：堀城之
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1997345738
Publication number (International publication number)：1999167205
Application date： Dec. 02, 1997
Publication date： Jun. 22, 1999
Summary：

【要約】【課題】レジストパターンのT型形状をほば完全に解消し、矩形なレジストパターンを得ること。解像性、焦点深度、寸法精度の向上を図ること。【解決手段】少なくともアルカリ難溶の保護基を有する樹脂と光酸発生剤とから成る化学増幅ポジ型レジスト材料において、架橋剤として機能するヘキサメトキシメチルメラミンを添加したことを特徴とする。架橋剤のヘキサメトキシメチルメラミンの添加量を、対ベース樹脂比1〜10%とする。

Claim (excerpt)：

少なくともアルカリ難溶の保護基を有する樹脂と光酸発生剤とから成る化学増幅ポジ型レジスト材料において、架橋剤として機能するヘキサメトキシメチルメラミンを添加したことを特徴とする化学増幅ポジ型レジスト。

IPC (3)：

G03F 7/039 601 , G03F 7/004 501 , H01L 21/027

FI (3)：

G03F 7/039 601 , G03F 7/004 501 , H01L 21/30 502 R

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (4)

レジスト塗布組成物
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平5-197813 Applicant：日本合成ゴム株式会社
レジスト塗布組成物
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平5-197814 Applicant：日本合成ゴム株式会社
パターンの保持方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平4-196871 Applicant：住友化学工業株式会社

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