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J-GLOBAL ID:200903074918330223
半導体レーザ素子
Inventor:
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Applicant, Patent owner:
Agent (1):
伊藤 洋二
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1994176901
Publication number (International publication number):1996046285
Application date: Jul. 28, 1994
Publication date: Feb. 16, 1996
Summary:
【要約】【目的】 ストライプ幅が100μm以上の大出力型の半導体レーザ素子において、端面コートのない状態より高光出力を得る。【構成】 活性層4における発光領域のストライプ幅が100μm以上で、光の出射方向に対する前端面および後端面に、単層または多層の光学薄膜が設けられてたものであって、前端面の反射率を5%〜25%、後端面の反射率を90〜100%とした。
Claim (excerpt):
発光領域のストライプ幅が100μm以上で、光の出射方向に対する前端面および後端面に、単層または多層の光学薄膜が設けられている半導体レーザ素子であって、前記前端面の反射率を5%以上にしたことを特徴とする半導体レーザ素子。
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (2)
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半導体レーザ装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平3-181398
Applicant:日本電気株式会社
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フレア構造半導体レーザ
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平6-153195
Applicant:日本電気株式会社
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