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J-GLOBAL ID：200903074944358500

ポジ型感光性樹脂組成物及びそれを用いた電子装置

Inventor： 岡部 義昭 ,  三輪 崇夫 ,  前川 康成 ,  上野 巧 ,  ジェラルディン ラメス-ラングラーデ ,  石田 美奈
Applicant, Patent owner： 株式会社日立製作所 ,  日立化成工業株式会社
Agent (1)： 平木 祐輔
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1996132042
Publication number (International publication number)：1997319082
Application date： May. 27, 1996
Publication date： Dec. 12, 1997
Summary：

【要約】【課題】 アルカリ現像可能な高信頼性のポジ型感光性樹脂組成物及びそれを用いた電子装置の提供。【解決手段】 カルボキシル基を有するジアミンを構成単位とするとともに、疎水性基を有するポリアミド酸エステルと、オルトキノンジアジドスルホンアミド化合物及び/又はオルトキノンジアジドスルホンアミドスルホンエステル化合物とを含有することを特徴とする、アルカリ水溶液で現像可能なポジ型感光性樹脂組成物、ならびにそれを用いた電子装置。【効果】 未露光部の浸食のない良好なポジ型のレリーフパターンを有するポリイミド膜が得られる。

Claim (excerpt)：

下記一般式(I)【化1】(式中、R1 は2価の有機基を示す(但し、R1 の55〜85モル%はカルボキシル基を有する)。R2 は疎水性基を示す。Xは-O-、-C(=O)-、又は直接結合を示す。nは6〜570 である。)で表わされるポリアミド酸エステルと、下記一般式(II)【化2】(式中、R3 はオルトキノンジアジドスルホニル基を示し、R4 は炭素数2〜30の有機基を示し、R5 はアルキル基又は水素を示す。mは1〜6である。)で表わされるオルトキノンジアジドスルホンアミド化合物及び/又は下記一般式(III)【化3】(式中、R3 はオルトキノンジアジドスルホニル基を示し、R4 は炭素数2〜30の有機基を示し、R5 はアルキル基又は水素を示す。m1 は1〜5であり、m2は1〜6である。)で表わされるオルトキノンジアジドスルホンアミドスルホンエステル化合物とを含有することを特徴とする、アルカリ水溶液で現像可能なポジ型感光性樹脂組成物。

IPC (3)：

G03F 7/022 ,  C08L 79/08 LRB ,  C09D179/08 PLW

FI (3)：

G03F 7/022 ,  C08L 79/08 LRB ,  C09D179/08 PLW

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (8)

• ポジ型感光性樹脂組成物
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平3-165320   Applicant：住友ベークライト株式会社
• 特開平4-046345
  
• 特開平4-168441
  
• 特開平4-120171
  
• 特開昭63-013032
  
• 特開平2-126974
  
• 特開平3-259148
  
• 感放射線性樹脂組成物
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平6-263226   Applicant：日本合成ゴム株式会社