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J-GLOBAL ID：200903075003663960

新規な芳香族スルホニウム化合物、これからなる光酸発生剤およびこれを含む光重合性組成物、光造形用樹脂組成物ならびに光学的立体造形法

Inventor：
大川 和夫

About 大川 和夫

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立川 裕之

About 立川 裕之

, 
近岡 里行

About 近岡 里行


Applicant, Patent owner：
旭電化工業株式会社

About 旭電化工業株式会社


Agent (1)： 本多 一郎
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1998291898
Publication number (International publication number)：2000186071
Application date： Oct. 14, 1998
Publication date： Jul. 04, 2000
Summary：
【要約】 (修正有)【課題】 光源の光を効率的に吸収し迅速で良質硬化物を与える良好な光重合開始剤として有用な新規化合物、これからなる光酸発生剤およびこれを含有する光重合性組成物を提供する。また酸素による硬化阻害がなく、硬化精度が良く容易に所望寸法の造形物を得る、照射エネルギーに高感度で、硬化深度が十分な光学的立体造形用樹脂組成物とこれを用いた造形方法を提供する。【解決手段】 一般式I、(R1はその水素の1つ以上がハロゲン又はアルキル基により置換されたp-フェニレン基、R2は酸素またはハロゲンを含んでもよい炭化水素基、Y1とY2は同一でも異なってもよい水素、ハロゲン、あるいは酸素またはハロゲンを含んでもよい炭化水素基、Xは1価のアニオン原子団)の芳香族スルホニウム化合物、これを含有する光重合性組成物、光学的立体造形用樹脂組成物およびこれを用いた光学的立体造形方法。
Claim (excerpt)：
下記一般式(I)、(式中、R1は、その水素原子の1つまたはそれ以上がハロゲン原子、あるいはアルキル基により置換されたp-フェニレン基であり、R2は、酸素原子またはハロゲン原子を含んでもよい炭化水素基、Y1およびY2は同一でも異なってもよい水素原子、ハロゲン原子、あるいは酸素原子またはハロゲン原子を含んでもよい炭化水素基、Xは1価のアニオンになりうる原子団)で表されることを特徴とする芳香族スルホニウム化合物。
IPC (5)：
C07C381/12 ,  C08G 59/68 ,  C08G 85/00 ,  G03F 7/029 ,  C08K 5/36
FI (5)：
C07C381/12 ,  C08G 59/68 ,  C08G 85/00 ,  G03F 7/029 ,  C08K 5/36
Patent cited by the Patent：
Cited by examiner (9)
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