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J-GLOBAL ID：200903075053877562

ポジ型感光性樹脂組成物、パターンの製造法及び電子部品

Inventor： 佐々木 守 ,  安斎 隆徳 ,  藤枝 永敏
Applicant, Patent owner： 日立化成デュポンマイクロシステムズ株式会社
Agent (1)： 高田 幸彦 (外1名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2000148562
Publication number (International publication number)：2001194791
Application date： May. 19, 2000
Publication date： Jul. 19, 2001
Summary：

【要約】【課題】本発明は、厚い膜厚でも露光感度が高く、パターンの形状も良好な、耐熱性に優れるポジ型感光性樹脂組成物、パターンの製造法及び信頼性の高い電子部品を提供する。【解決手段】(A)ポリイミド前駆体又はポリオキサゾール前駆体、(B)光により酸を発生する化合物、及び、(C)酸触媒反応によりアルカリ水溶液に対する溶解性が増加する酸分解性基を有する化合物を含有してなるポジ型感光性樹脂組成物、パターンの製造法及び電子部品。

Claim (excerpt)：

(A)ポリイミド前駆体又はポリオキサゾール前駆体、(B)光により酸を発生する化合物、及び、(C)酸触媒反応によりアルカリ水溶液に対する溶解性が増加する酸分解性基を有する化合物を含有してなるポジ型感光性樹脂組成物。

IPC (6)：

G03F 7/039 601 ,  C08K 5/00 ,  C08L 79/06 ,  C08L 79/08 ,  G03F 7/037 501 ,  H01L 21/027

FI (6)：

G03F 7/039 601 ,  C08K 5/00 ,  C08L 79/06 ,  C08L 79/08 A ,  G03F 7/037 501 ,  H01L 21/30 502 R

F-Term (46)：

2H025AA01 ,  2H025AA03 ,  2H025AA10 ,  2H025AB16 ,  2H025AB17 ,  2H025AC01 ,  2H025AD03 ,  2H025BE00 ,  2H025BE07 ,  2H025BE10 ,  2H025BG00 ,  2H025CB19 ,  2H025CB25 ,  2H025CB34 ,  2H025CB43 ,  2H025FA12 ,  2H025FA17 ,  2H025FA29 ,  4J002BC042 ,  4J002BC122 ,  4J002BG012 ,  4J002CD052 ,  4J002CL002 ,  4J002CM011 ,  4J002CM021 ,  4J002CM041 ,  4J002EB116 ,  4J002EJ016 ,  4J002EJ036 ,  4J002EJ056 ,  4J002EJ066 ,  4J002EL087 ,  4J002EN076 ,  4J002EQ036 ,  4J002EU186 ,  4J002EU216 ,  4J002EV046 ,  4J002EV216 ,  4J002EV236 ,  4J002EV246 ,  4J002EV296 ,  4J002FD146 ,  4J002FD202 ,  4J002FD207 ,  4J002GP03 ,  4J002HA05

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (3)

• 透明性樹脂、感光性組成物、およびパターン形成方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平9-272534   Applicant：株式会社東芝
• 耐熱性ポジ型フオトレジスト組成物
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平3-065634   Applicant：日東電工株式会社
• 感光性耐熱性樹脂前駆体組成物
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平10-004120   Applicant：東レ株式会社