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J-GLOBAL ID：200903075457777871

水中プラズマによる水処理方法及びその水処理装置

Inventor：
中村 透

About 中村 透


Applicant, Patent owner：
日本リソース株式会社

About 日本リソース株式会社

, 
株式会社環境科学研究所

About 株式会社環境科学研究所


Agent (1)： 平田 義則
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2003271044
Publication number (International publication number)：2005021869
Application date： Jul. 04, 2003
Publication date： Jan. 27, 2005
Summary：
【課題】 イ.プラズマによる紫外線やオゾンを発生させることによるラディカルの安定的な生成、ロ.プラズマの安定的な発生、ハ.発生装置や工程の煩雑化を解決することができる水処理技術の提供。【解決手段】 被処理水中に相対配置された電極と、この電極にパルス状高電圧を印加させるパルス高電圧装置5と、被処理水中に酸素の微細気泡を混合させる微細気泡混合装置を備え、前記電極にパルス高電圧装置によってパルス状高電圧を印加し、発生したプラズマにより被処理水中の微細気泡の酸素を分解させて、オゾンやラディカルを安定的に生成させ、被処理水中の浮遊物や溶解物を分解させる。【選択図】 図1
Claim (excerpt)：
被処理水中で相対する電極にパルス状高電圧を印加し、放電により発生するプラズマを利用した水処理方法であり、被処理水に酸素の微細気泡を混合させてプラズマによる酸素の分解を行い、オゾンやラディカルを安定的に生成して、被処理水中の浮遊物や溶解物を分解させることを特徴とする水中プラズマによる水処理方法。
IPC (3)：
C02F1/46 ,  B01F3/04 ,  C02F1/78
FI (3)：
C02F1/46 Z ,  B01F3/04 C ,  C02F1/78
F-Term (26)：
4D050AA02 ,  4D050AA12 ,  4D050AB03 ,  4D050AB04 ,  4D050AB07 ,  4D050AB11 ,  4D050BB02 ,  4D050BC10 ,  4D050BD04 ,  4D050BD06 ,  4D061DA01 ,  4D061DA08 ,  4D061DB15 ,  4D061DB18 ,  4D061DB20 ,  4D061DC03 ,  4D061DC04 ,  4D061DC08 ,  4D061EA13 ,  4D061EB01 ,  4D061EB07 ,  4D061EB33 ,  4D061ED01 ,  4D061ED06 ,  4G035AB27 ,  4G035AE13
Patent cited by the Patent：
Cited by applicant (2)
  • プラズマによる液体処理装置
    Gazette classification：公開公報   Application number：特願平10-312677   Applicant：株式会社荏原製作所
  • 排水処理装置
    Gazette classification：公開公報   Application number：特願2000-069810   Applicant：三菱重工業株式会社, 堀井清之
Cited by examiner (5)
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